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PEARD系統
SENTECH SILAYO是一種用于光學鍍膜的等離子體增強原子層沉積（PEALD）系統，擴展了SENTECH PECVD和ALD產品組合。SENTECH SI...
型號： SENTECH S... 所在地：深圳市參考價：面議更新時間：2024/8/12 10:25:06 對比

原子層沉積ALD
投影步進電機
AP200/300 系列光刻系統基于 Veeco 的可定制 Unity 平臺™構建，可提供覆蓋層、分辨率和側壁輪廓性能，并可實現高度自動化和具有成本...
型號： AP200/300 所在地：深圳市參考價：面議更新時間：2024/8/12 10:21:06 對比

投影步進光刻
Lancer離子束蝕刻系統
新型 Lancer™ 離子束蝕刻（IBE）系統專為開發和生產智能手機、自動駕駛汽車和其他可實現連接性、功能性和移動性的“物聯網"設備中的下一代電...
型號：所在地：深圳市參考價：面議更新時間：2024/8/12 10:20:00 對比

離子束蝕刻
原子層刻蝕
ALE是一種先進的刻蝕技術，可以針對較淺的微結構進行出色的深度控制。隨著器件微結構尺寸越來越小，要達到器件的更高性能可以通過ALE技術所具有的精度來實現。在如...
型號： PlasmaPro... 所在地：深圳市參考價：面議更新時間：2024/8/12 10:19:40 對比

原子層刻蝕工藝
等離子體蝕刻系統
SI 500 C 代表了專為低溫蝕刻而設計的電感耦合等離子體（ICP）處理的前沿。SENTECH SI 500 C 低溫 ICP-RIE 等離子體蝕刻系統代...
型號： SI 500 C 所在地：深圳市參考價：面議更新時間：2024/8/12 10:19:16 對比

低溫蝕刻
等離子蝕刻系統
SENTECH SI 500 ICP-RIE等離子體蝕刻系統使用具有低離子能量的電感耦合等離子體（ICP）源，可實現低損傷蝕刻和納米結構。
型號： SENTECH S... 所在地：深圳市參考價：面議更新時間：2024/8/12 10:18:54 對比

電感耦合等離子體
開蓋等離子蝕刻系統
等離子蝕刻系統 Etchlab 200 具有經濟高效的 RIE 直接加載的優點。SENTECH Etchlab 200 RIE等離子蝕刻系統代表了一系列直接加載...
型號： Etchlab 2... 所在地：深圳市參考價：面議更新時間：2024/8/12 10:18:30 對比

等離子蝕刻系統
ICPCVD
PlasmaPro 80是一種結構緊湊且使用方便的小型直開式系統，可以提供多種刻蝕和沉積的解決方案。它易于放置，便于使用，且能夠確保工藝性能。直開式設計可實現...
型號： PlasmaPro... 所在地：深圳市參考價：面議更新時間：2024/8/12 10:13:43 對比

ICPCVD 刻蝕沉積
離子束沉積
離子束沉積產品是因為它們能夠生產具有高質量，致密和表面光滑的沉積薄膜。離子束技術提供了一種多樣的刻蝕和沉積的方法，并可在同一設備上實現，因而提高系統的利用率。...
型號： Ionfab 30... 所在地：深圳市參考價：面議更新時間：2024/8/12 10:12:56 對比

離子束沉積
激光光刻機
DWL 2000 GS / DWL 4000 GS 激光光刻系統是快速、靈活的高分辨率圖形發生器。它們針對工業級灰度光刻進行了優化，設計用于集成電路、MEMS、...
型號： DWL 2000 ... 所在地：深圳市參考價：面議更新時間：2024/8/12 10:10:05 對比

灰度光刻
ICPECVD 系統
電感耦合等離子體（ICP）沉積系統，SENTECH SI 500 D 用于介電膜的高密度、低離子能量和低壓等離子體沉積，以及用于鈍化層的低損傷、低溫沉積。S...
型號： SI 500 D 所在地：深圳市參考價：面議更新時間：2024/8/12 10:09:28 對比

電感耦合等離子體（ICP）沉積系統
涂膠與顯影機
ACS300 Gen2 涂布機和顯影劑用于晶圓級封裝的生產旋涂/開發集群ACS300 Gen2 是一個模塊化集群系統，旨在滿足制造商對 200 和 300 毫米...
型號： ACS300 Ge... 所在地：深圳市參考價：面議更新時間：2024/8/12 10:01:51 對比

涂膠顯影半導體前道工藝

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