主要功能與優勢
PEALD 實現最佳薄膜均勻性 < 1 %
SENTECH SILAYO 等離子體增強原子層沉積 （PEALD） 系統設計用于在大型 3D 物體和小基材批次上進行保形和均勻光學鍍膜。SENTECH專有的平面三重螺旋天線（PTSA）為均勻的光學鍍膜提供均勻的等離子體。
直徑達 330 mm、高度達 100 mm 的樣品
SENTECH SILAYO PEALD系統能夠均勻包被直徑達330 mm、垂直尺寸達100 mm的樣品。
使用射頻偏置進行應力控制
可選的射頻偏置襯底電極允許修改層屬性（例如應力和折射率）
SENTECH SILAYO PEALD 系統擴展了 SENTECH ALD 和 PEALD 產品組合，可在 330 mm 基板和 3D 基板上進行沉積。為了確保層厚具有出色的均勻性和保形性，PEALD用于沉積光學薄膜，例如，作為抗反射涂層或光學濾光片系統。SENTECH SILAYO在PEALD處理中利用了SENTECH平面三重螺旋天線（PTSA）電感耦合等離子體（ICP）源的優點。
靈活性和模塊化
SENTECH SILAYO PEALD系統設計用于在大型和3D形狀的基材上沉積材料，特別適用于對層性能要求高的光學鍍膜，例如厚度和成分控制的高精度，光滑的表面和尖銳的界面，應力控制，特別是高厚度的多層堆疊，3D形狀上的高均勻性和保形性，以及降低沉積溫度以實現低損傷加工。
該系統可以選擇配備SENTECH AL實時監測儀的專有技術，用于原位監測。
SENTECH SILAYO由先進的硬件和SENTECH SIA軟件控制，具有客戶端-服務器架構。一個經過充分驗證的、可靠的可編程邏輯控制器（PLC）用于所有組件的實時控制。
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