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深圳市矢量科學儀器有限公司

  • CMP后清洗機

    CMP后清洗機 簡介：該系列設備是晶圓CMP后的專用清洗設備，有單工位、轉位式、連線式等不同結構，以適用不同應用場景，其中連線式設備加配全自動上下片系統。該系列...
    型號： customize... 所在地：國外 參考價： 面議 更新時間：2024/9/6 16:48:45 對比

  • 全自動SCRUBBER清洗機

    全自動SCRUBBER清洗機 簡介：?清洗機可以用于對晶圓表面，背面及晶圓邊緣的清洗，通過創新研發的二流體噴嘴技術可將附著在晶圓表面的細微顆粒污染物去除。通過大...
    型號： customize... 所在地：上海市 參考價： 面議 更新時間：2024/9/6 16:07:41 對比

  • 紫外線臭氧清洗機

    UV-300H是一款高性能的緊湊型紫外線臭氧清洗機。通過滑動抽屜將基材裝入系統中。紫外線照射、高濃度臭氧和階段性加熱的組合，可溫和而有效地去除硅、玻璃、化合物半...
    型號： UV-300H 所在地：國外 參考價： 面議 更新時間：2024/9/6 15:39:31 對比

  • 紫外線臭氧清洗機

    UV-1是一款緊湊型臺式紫外線臭氧清洗機。該系統將紫外線照射、臭氧和平臺加熱結合在一起，溫和而有效地去除硅、玻璃、化合物半導體（GaN、GaAs、InP、SiC...
    型號： UV-1 所在地：國外 參考價： 面議 更新時間：2024/9/6 15:30:45 對比

  • 等離子清洗設備

    PC-300等離子清洗設備是一種平行板式等離子清洗機，用于清洗樣品表面的有機和無機污染。該工藝室允許用戶安裝多個電架，架式電配置的靈活性支持從研究到小批量生產的...
    型號： PC-300 所在地：國外 參考價： 面議 更新時間：2024/9/6 15:27:23 對比

  • 晶片清洗機

    本機是一款全自動晶片刷洗機，全程封閉環境采用機械手自動操作，具備刷洗甩干功能，適用于各種半導體襯底材料拋光后的刷洗，可有效減少晶片表面顆粒污染。
    型號： TWB-200 所在地：深圳市 參考價： 面議 更新時間：2024/9/6 11:38:32 對比

  • CMP后清洗機

    該系列設備是碳化硅晶圓拋光后的專用清洗設備，采用連線式結構，設備加配全自動上下片系統。該系列設備配有漂洗、雙面刷洗、兆聲清洗、N2吹干、高速甩干功能，集成度高，...
    型號： TSC-150C/... 所在地：深圳市 參考價： 面議 更新時間：2024/9/6 11:22:51 對比

  • CMP后清洗機

    該系列設備是晶圓CMP后的專用清洗設備，有單工位、轉位式、連線式等不同結構，以適用不同應用場景，其中連線式設備加配全自動上下片系統。該系列設備配有漂洗、雙面刷洗...
    型號： TSC-100/3... 所在地：深圳市 參考價： 面議 更新時間：2024/9/6 11:15:58 對比

  • 大氣式等離子清潔系統

    PlasmaPen™ 是PVA TePla的大氣式等離子清潔系統，可滿足各種表面處理要求，如表面清潔及表面活化。
    型號： PlasmaPen... 所在地：美國 參考價： 面議 更新時間：2024/9/6 10:54:52 對比

  • 單片式化學清洗機

    KS-CM300/200 單片式化學清洗機適用于沉積前清洗、蝕刻后清洗、離子注入后清洗、CMP后清洗等多種前段工藝（FEOL）和后段工藝（BEOL）清洗進程，可...
    型號： KS-CM300/... 所在地：沈陽市 參考價： 面議 更新時間：2024/9/6 10:21:11 對比

  • 晶圓濕法清洗工作臺

    WaferStorm平臺是先進封裝、MEMS、射頻、數據存儲和光子學市場中許多關鍵溶劑型工藝的行業選擇。有 2 個版本——手動加載 （ML） 和 3300 系列...
    型號： 3300系列 所在地：國外 參考價： 面議 更新時間：2024/9/6 10:05:35 對比

  • 清洗設備

    SUSS MicroTecs ASx 系列為加工掩模和 250 nm 至 90 nm 技術節點提供了先進的烘烤、顯影和清潔方法。其可靠性、穩定性和高性能使平臺能...
    型號： ASx 系列 所在地：國外 參考價： 面議 更新時間：2024/9/6 9:37:45 對比

  • 條形等離子清潔系統

    80 Plus 條形等離子清潔系統專為半導體加工而開發，可支持手動及自動操作，兩種操作方式均簡單易用。該系統可以配備或不配備裝卸站；此外，每個裝卸站都可支持不同...
    型號： 80 Plus 所在地：美國 參考價： 面議 更新時間：2024/9/5 17:05:42 對比

  • 透射電鏡樣品桿清洗機

    CIF透射電鏡樣品桿清洗機采用遠程離子清洗源設計，清洗快速高效，低轟擊損傷，同時可實現常規等離子清洗。主要用于TEM透射電鏡樣品桿的等離子體清洗和真空檢漏。
    型號： CIF-TEM 所在地：深圳市 參考價： 面議 更新時間：2024/9/5 15:46:29 對比

  • 12英寸單片清洗設備

    Saqua SC3080A系列 12英寸單片清洗設備。
    型號： Saqua SC3... 所在地：北京市 參考價： 面議 更新時間：2024/9/5 15:34:10 對比

  • 12英寸槽式清洗設備

    WE3102系列 12英寸槽式清洗設備，可配備 i-Clean 多藥液工藝槽，支持 DN unit, DIO3 等附屬功能。
    型號： WE3102系列 所在地：北京市 參考價： 面議 更新時間：2024/9/5 15:28:23 對比

  • 硅片腐蝕清洗機

    英思特長期致力于半導體等行業干濕制程設備、自動供/排液系統、甩干機等設備的設計、生產、銷售及設備的優化。期待與您的合作！
    型號： customize... 所在地：南通市 參考價： 面議 更新時間：2024/9/5 14:59:45 對比

  • 硅芯清洗機

    設備介紹:硅芯清洗機本設備為柜體式腐蝕機,整臺設備均采用進口件.基本材質:箱體材質:德國茲白色聚丙烯(PP) 門板材質:德國透明聚氯乙烯(PVC)腐蝕槽材質:德...
    型號： customize... 所在地：南通市 參考價： 面議 更新時間：2024/9/5 14:36:33 對比

  • 晶片清洗機

    英思特長期致力于半導體等行業干濕制程設備、自動供/排液系統、甩干機等設備的設計、生產、銷售及設備的優化。期待與您的合作！
    型號： customize... 所在地：南通市 參考價： 面議 更新時間：2024/9/5 14:31:17 對比

  • 8英寸槽式清洗設備

    WE2102系列 8英寸槽式清洗設備，該平臺工藝區為 12 吋先進槽式清洗設備的拓展，具備優異的工藝效果。
    型號： WE2102系列 所在地：北京市 參考價： 面議 更新時間：2024/9/5 14:29:19 對比
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