多模式功能
能夠與其它等離子體刻蝕和沉積設(shè)備相集成
單晶圓傳送模式或集群式晶圓操作
雙束流配置
更低的表面薄膜粗糙度
更佳的批次均勻性和工藝重復(fù)性
準(zhǔn)確終點(diǎn)監(jiān)測(cè) —— SIMS,發(fā)射光譜
產(chǎn)品特點(diǎn)
質(zhì)量薄膜高 ——超低污染
產(chǎn)量高,緊湊的系統(tǒng)體積設(shè)計(jì)-——運(yùn)行成本低
高速襯底架(高達(dá)1000RPM)設(shè)計(jì),并配備了白光光學(xué)監(jiān)視器(WLOM)——更為精確的實(shí)時(shí)光學(xué)薄膜控制
配置靈活 ——適于先進(jìn)的研究應(yīng)用
靈活的晶圓操作方式 —— 直開式、單晶圓傳送模式或者帶機(jī)械手臂的盒對(duì)盒模式
應(yīng)用
磁阻式隨機(jī)存取存儲(chǔ)器(MRAM)
介電薄膜
III-V族光電子材料刻蝕
自旋電子學(xué)
金屬電極和軌道
超導(dǎo)體
激光端面鍍膜
高反射(HR)膜
防反射(AR)膜
環(huán)形激光陀螺反射鏡
X射線光學(xué)系統(tǒng)
紅外(IR)傳感器
II-VI族材料
通信濾波器
- 北方華創(chuàng)
- KEYSIGHT/美國(guó)是德
- ULVAC/日本愛發(fā)科
- SAMCO
- SENTECH
- Veeco
- 沈陽(yáng)科儀
- 特思迪
- UNITEMP/尤尼坦
- SUSS
- Nikon/日本尼康
- OXFORD/英國(guó)牛津
- PVA TePla
- 其他品牌
- LEBO/雷博
- CIF
- Beneq
- 魯汶
- 芯源
- KURT.J.LESKER
- 響河
- Laurell
- STELLA/海德堡儀器
- G&P
- Yxlon
- 韓國(guó)真空/IOKOVA
- 托托科技
- ELIONIX
- 矢量科學(xué)
- 愛思強(qiáng)
- MPI
- 英斯特
- Angstrom
- ADT
- RIBER
- ESPEC/愛斯佩克
- Formfactor
- 珞佳智能
- 佳能
- KOSAKA/小坂研究所
- 智程
- ERS
- PVD
- 鎧柏/AdNaNo
- Hitachi/日立
- HORIBA/堀場(chǎng)
- 美國(guó)標(biāo)樂
- ficonTEC
- 博捷芯
- F&S
- 華卓精科
- 至純
- Scienta Omicron
- TRESKY
- 米開羅那
- 尼普洛
- 泉一
- Raith
- NORDSON/美國(guó)諾信
- KEYENCE/基恩士
- Coherent
- MTS/美國(guó)美特斯
- ZEISS/蔡司
- Bruker/布魯克
- Kruss/克呂士
- FEI/賽默飛
- 日本電子
- Rigaku/理學(xué)
- 天仁微納