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深圳市矢量科學儀器有限公司

  • 步進式光刻機

    1、Nikon EX12B步進式光刻機光源波長248nm分辨率優于0.3µm主要用于2寸、4寸、6寸及8寸生產線廣泛應用于化合物半導體、MEMS、LE...
    型號： Nikon EX1... 所在地：深圳市 參考價： 面議 更新時間：2024/9/4 15:49:10 對比

  • 步進式光刻機

    1、Nikon SF120/130步進式光刻機光源波長365nm分辨率優于0.28µm主要用于6寸、8寸及12寸生產線廣泛應用于化合物半導體、MEMS...
    型號： Nikon SF1... 所在地：深圳市 參考價： 面議 更新時間：2024/9/4 15:46:17 對比

  • 電容耦合等離子體刻蝕（CCP）設備

    詳細介紹CCP腔室適用于制造微納結構的等離子刻蝕技術。在反應離子刻蝕過程中，等離子體中會包含大量的活性粒子，與表面原子產生化學反應，生成可揮發產物后，隨真空抽氣...
    型號： Haasrode&... 所在地：徐州市 參考價： 面議 更新時間：2024/9/4 15:45:18 對比

  • Batch式高真空蒸發設備

    Batch式高真空蒸發設備ei系列是可對應在基板上成金屬膜或氧化物膜的設備?？赏ㄟ^操作面板實現抽真空、成膜等作業內容的集中自動化操作，適用于研究開發及少量生產。
    型號： ei系列 所在地：國外 參考價： 面議 更新時間：2024/9/4 15:42:25 對比

  • 涂膠顯影機

    KS-FT200/300系列堆疊式高產能前道涂膠顯影機，為我司自主研發的突破晶圓前道28nm工藝節點及以上工藝制程，適用于ArF、KrF、I-Line、PI、B...
    型號： KS-FT200/... 所在地：深圳市 參考價： 面議 更新時間：2024/9/4 15:41:33 對比

  • 等離子增強化學氣相沉積PECVD

    提供大面積刻蝕與沉積的量產型解決方案，LED工業要求高產量，高器件質量和低購置成本。 PlasmaPro 1000更好地解決了這些需求。
    型號： PlasmaPro... 所在地：深圳市 參考價： 面議 更新時間：2024/9/4 15:39:11 對比

  • 光譜橢偏儀

    UNECS系列是可以高速、高精度測量薄膜膜厚和折射率的分光橢偏儀。采用的測量方式，實現了高速測量和機體的小型化。我們的產品陣容包括便攜式，自動式和對應真空環境的...
    型號： UNECS系列 所在地：日本 參考價： 面議 更新時間：2024/9/4 15:39:06 對比

  • 步進式光刻機

    1、Nikon NSR 2205i14E步進式光刻機光源波長365nm分辨率優于0.35µm主要用于2寸、4寸、6寸及8寸生產線，廣泛應用于化合物半導...
    型號： Nikon NSR... 所在地：深圳市 參考價： 面議 更新時間：2024/9/4 15:37:08 對比

  • 8英寸電感耦合等離子體化學氣相沉積設備

    Shale® C系列電感耦合等離子體化學氣相沉積設備（ICP-CVD），通過電感耦合（ICP）產生高密度等離子體，并通過電容耦合（CCP）產生偏壓，可...
    型號： Shale... 所在地：徐州市 參考價： 面議 更新時間：2024/9/4 15:35:04 對比

  • 活性化退火設備

    PFS系列是SiC工藝等高溫處理工藝中，配合使用的退火設備?？勺畲髮?150mm。
    型號： PFS系列 所在地：國外 參考價： 面議 更新時間：2024/9/4 15:34:17 對比

  • 8英寸等離子體增強化學氣相沉積設備

    詳細介紹Shale® A系列等離子體增強化學氣相沉積設備（PECVD），通過平行電容板電場放電產生等離子體，可以在400℃及以下沉積比較致密、均勻性較...
    型號： Shale... 所在地：深圳市 參考價： 面議 更新時間：2024/9/4 15:30:52 對比

  • 深硅刻蝕機

    深硅刻蝕機HSE P300主要用于12英寸硅刻蝕。采用Cluster結構布局，能夠減小占地，提升產能。系統主要由傳輸模塊、工藝模塊、灰區部件、電源柜等組成?？蓪?..
    型號： HSE系列 所在地：深圳市 參考價： 面議 更新時間：2024/9/4 15:25:22 對比

  • 真空計

    皮拉尼真空計，可以測量從大氣壓到5×10-2Pa的廣泛的壓力范圍該真空計從傳統的控制器（傳感器單元）中除去操作·顯示部，最大限度凝縮精簡功能...
    型號： SW系列 所在地：日本 參考價： 面議 更新時間：2024/9/4 15:24:10 對比

  • 氣相分解金屬沾污收集（VPD）設備

    詳細介紹Seehund® A型氣相分解金屬沾污收集設備（VPD）是專為集成電路制造、大晶圓生產及再生、先導工藝研發等行業提供金屬沾污控制方案的產品。由...
    型號： Seehund&#... 所在地：徐州市 參考價： 面議 更新時間：2024/9/4 15:19:49 對比

  • 真空泵

    VS系列是旋片式（單級）的油旋轉真空泵?？纱钆淞_茨泵獲得更大的排氣量。內置油霧過濾器和回油裝置，排氣性能長期穩定。此外，設計上還考慮到了油和濾芯更換等維保的便宜...
    型號： VS系列 所在地：日本 參考價： 面議 更新時間：2024/9/4 15:10:10 對比

  • 半自動CMP拋光機

    CMP拋光機是一款針對薄膜（介質層）的拋光設備，操作便捷，兼容性強，通過更換拋光壓頭實現不同尺寸晶圓的兼容，采用手動裝片方式，可配置半自動loading系統，氣...
    型號： TMP-200S/... 所在地：深圳市 參考價： 面議 更新時間：2024/9/4 15:08:39 對比

  • 真空蒸餾設備

    真空蒸餾設備CEH系列該設備的用途是真空蒸餾處理?？稍谡婵障碌蜏囟虝r間蒸餾熱感受性高的物質（熱分解·重重合的物質）。具有非常優異的分離效率。
    型號： CEH系列 所在地：國外 參考價： 面議 更新時間：2024/9/4 15:06:41 對比

  • 12英寸槽式清洗設備

    12英寸槽式清洗設備Pinnacle300平臺適用于集成電路、功率半導體、襯底材料、硅基微顯示領域的清洗工藝。該機臺主要由傳輸模塊、工藝模塊、藥液供給系統、電源...
    型號： Pinnacle3... 所在地：北京市 參考價： 面議 更新時間：2024/9/4 15:03:36 對比

  • 6/8英寸全自動槽式清洗機

    GAMA系列6/8英寸全自動槽式清洗機滿足全部濕法工藝需求，覆蓋RCA、PR Strip、Solvent、Wet Etch等應用，可用于典型0.35um、0.1...
    型號： GAMA Seri... 所在地：北京市 參考價： 面議 更新時間：2024/9/4 15:01:01 對比

  • 等離子增強原子層沉積PEALD

    我們的 Fiji® 系列是一種模塊化、高真空熱原子層沉積系統，采用靈活的架構和多種前驅體和等離子體氣體配置，可適應各種沉積模式。Fiji G2 是下一...
    型號： Fiji 所在地：國外 參考價： 面議 更新時間：2024/9/4 15:00:25 對比
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