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那諾中國有限公司
中級(jí)會(huì)員 | 第10年

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  • NRE-4000（ICPA）全自動(dòng)ICP刻蝕系統(tǒng)

    NRE-4000（ICPA）全自動(dòng)ICP刻蝕系統(tǒng)：自動(dòng)上下載片，帶ICP等離子源和偏壓樣品臺(tái)的高速刻蝕系統(tǒng)，系統(tǒng)可以達(dá)到高速率、低損傷、高深寬比的刻蝕效果。可實(shí)...

    型號(hào)： 所在地：國外參考價(jià)： 面議更新時(shí)間：2024/8/12 14:51:14 對(duì)比
    全自動(dòng)ICP刻蝕系統(tǒng)全自動(dòng)ICP刻蝕機(jī)進(jìn)口全自動(dòng)ICP刻蝕機(jī)
  • NRE-3000 反應(yīng)離子刻蝕機(jī)

    NRE-3000 反應(yīng)離子刻蝕機(jī)：PC控制的RIE反應(yīng)離子刻蝕系統(tǒng)，淋浴頭氣體分布裝置以及水冷RF樣品，不銹鋼柜子及13“的上蓋式圓柱形鋁腔,便于晶圓片裝載.腔...

    型號(hào)： 所在地：國外參考價(jià)： 面議更新時(shí)間：2024/8/12 14:50:28 對(duì)比
    反應(yīng)離子刻蝕機(jī)價(jià)格RIE反應(yīng)離子刻蝕機(jī)進(jìn)口反應(yīng)離子刻蝕機(jī)
  • RIE刻蝕機(jī)

    RIE刻蝕機(jī)：獨(dú)立式RIE系統(tǒng)，淋浴頭氣體分布裝置以及水冷RF樣品，不銹鋼柜子以及13“的上蓋式圓柱形鋁腔,便于晶圓片裝載.腔體有兩個(gè)端口:一個(gè)帶有2“的視窗,...

    型號(hào)： 所在地：國外參考價(jià)： 面議更新時(shí)間：2024/8/12 14:48:51 對(duì)比
    RIE刻蝕機(jī)反應(yīng)離子刻蝕機(jī)刻蝕機(jī)
  • 進(jìn)口晶圓清洗機(jī)

    進(jìn)口晶圓清洗機(jī)：Nano-Master進(jìn)口兆聲單晶圓及掩模版清洗機(jī)提供高可重復(fù)性、高均勻性及兆聲清洗。它可以在一個(gè)工藝步驟中包含了的無損兆聲清洗、化學(xué)試劑清洗、...

    型號(hào)： SWC系列/LSC... 所在地：國外參考價(jià)： 面議更新時(shí)間：2024/8/12 14:47:36 對(duì)比
    進(jìn)口晶圓清洗機(jī)兆聲無損清洗機(jī)兆聲無損清洗設(shè)備進(jìn)口掩模版清洗機(jī)兆聲無損硅片清洗
  • SWC-4000兆聲晶圓（掩模版）清洗機(jī)

    SWC-4000兆聲晶圓（掩模版）清洗機(jī)：Nano-Master兆聲單晶圓及掩模版清洗機(jī)提供高可重復(fù)性、高均勻性及的兆聲清洗、兆聲輔助下光刻膠剝離，以及濕法刻蝕...

    型號(hào)： 所在地：國外參考價(jià)： 面議更新時(shí)間：2024/8/12 14:43:52 對(duì)比
    進(jìn)口濕法刻蝕系統(tǒng)兆聲無損晶圓清洗機(jī)兆聲掩模版清洗機(jī)兆聲無損硅片清洗機(jī)
  • NSC-4000（A）全自動(dòng)磁控濺射系統(tǒng)

    NSC-4000（A）全自動(dòng)磁控濺射系統(tǒng)：立式自動(dòng)系統(tǒng)，帶有水冷或者加熱（Z高可加熱到700度）功能，Z大到6“旋轉(zhuǎn)平臺(tái)，Z大可支持到4個(gè)偏軸平面磁控管。系統(tǒng)配...

    型號(hào)： 所在地：國外參考價(jià)： 面議更新時(shí)間：2024/8/12 14:36:42 對(duì)比
    磁控濺射鍍膜系統(tǒng)進(jìn)口全自動(dòng)磁控濺射臺(tái)全自動(dòng)磁控濺射鍍膜儀全自動(dòng)磁控濺射鍍膜機(jī)
  • ICP等離子刻蝕機(jī)

    NRE-4000（ICPM）ICP等離子刻蝕機(jī)：是帶ICP等離子源和偏壓樣品臺(tái)的高速刻蝕系統(tǒng)，系統(tǒng)可以達(dá)到高速率、低損傷、高深寬比的刻蝕效果。可實(shí)現(xiàn)范圍廣泛的刻...

    型號(hào)： NRE-4000（... 所在地：國外參考價(jià)： 面議更新時(shí)間：2024/8/12 14:35:29 對(duì)比
    NRE-4000ICP刻蝕系統(tǒng)NRE-4000ICP刻蝕機(jī)進(jìn)口ICP等離子刻蝕機(jī)ICP刻蝕機(jī)
  • SWC-5000全自動(dòng)兆聲晶圓清洗機(jī)

    SWC-5000全自動(dòng)兆聲晶圓清洗機(jī)：Nano-Master兆聲單晶圓及掩模版清洗機(jī)提供高可重復(fù)性、高均勻性及的兆聲清洗、兆聲輔助下光刻膠剝離，以及濕法刻蝕。該...

    型號(hào)： 所在地：國外參考價(jià)： 面議更新時(shí)間：2024/8/12 14:32:03 對(duì)比
    進(jìn)口濕法刻蝕系統(tǒng)全自動(dòng)濕法刻蝕系統(tǒng)全自動(dòng)晶圓清洗機(jī)全自動(dòng)掩膜板清洗機(jī)全自動(dòng)硅片清洗機(jī)
  • PTR-TOF-MS質(zhì)子轉(zhuǎn)移反應(yīng)飛行時(shí)間質(zhì)譜儀

    PTR-TOF-MS質(zhì)子轉(zhuǎn)移反應(yīng)飛行時(shí)間質(zhì)譜儀是一種利用H3O+離子將質(zhì)子轉(zhuǎn)移到比水具有更高質(zhì)子親和力的所有化合物的軟電離方法。空氣中的一般成分不會(huì)被氫離子束電...

    型號(hào)： PTR 2e 所在地：國外參考價(jià)： 面議更新時(shí)間：2024/7/23 15:06:43 對(duì)比
    飛行時(shí)間質(zhì)譜儀質(zhì)子轉(zhuǎn)移反應(yīng)飛行時(shí)間質(zhì)子轉(zhuǎn)移反應(yīng)質(zhì)譜儀tof-ms氣體分析質(zhì)譜儀
  • 光學(xué)鍍膜系統(tǒng)

    光學(xué)鍍膜系統(tǒng)：NANO-MASTER NOC-4000光學(xué)涂覆系統(tǒng)提供*進(jìn)的技術(shù)，在一個(gè)腔體中實(shí)現(xiàn)原子級(jí)清洗和光學(xué)樣片拋光，然后把樣片傳送到第二級(jí)腔體中對(duì)同一樣...

    型號(hào)： 所在地：國外參考價(jià)： 面議更新時(shí)間：2023/11/13 13:49:51 對(duì)比
    光學(xué)鍍膜系統(tǒng)光學(xué)元件原子級(jí)鍍膜光學(xué)元件鍍膜機(jī)光學(xué)元件清洗鍍膜
  • 進(jìn)口ALD設(shè)備

    進(jìn)口ALD設(shè)備：ALD原子層沉積可以滿足膜厚控制以及高深寬比結(jié)構(gòu)的保形沉積，這方面ALD原子層沉積遠(yuǎn)超過其它沉積技術(shù)。由于前驅(qū)體流量的隨意性不會(huì)帶來影響，所以在...

    型號(hào)： 所在地：國外參考價(jià)： 面議更新時(shí)間：2023/11/13 13:45:12 對(duì)比
    ALD進(jìn)口ALD全自動(dòng)原子層沉積進(jìn)口全自動(dòng)ALD
  • 等離子去膠機(jī)

    等離子去膠機(jī)：NANO-MASTER 等離子去膠和等離子灰化機(jī)是專門設(shè)計(jì)用來滿足晶圓批處理或單晶片處理，具有廣泛應(yīng)用，從晶圓的光刻膠剝離到表面改性都涉及到。該系...

    型號(hào)： 所在地：國外參考價(jià)： 面議更新時(shí)間：2023/11/13 13:42:54 對(duì)比
    等離子去膠機(jī)等離子去膠系統(tǒng)進(jìn)口等離子去膠機(jī)
  • 硅片清洗機(jī)

    硅片清洗機(jī)：Nano-Master兆聲單晶圓及掩模版清洗機(jī)提供高可重復(fù)性、高均勻性及兆聲清洗。它可以在一個(gè)工藝步驟中包含了的無損兆聲清洗、化學(xué)試劑清洗、刷子清洗...

    型號(hào)： SWC系列/LSC... 所在地：國外參考價(jià)： 面議更新時(shí)間：2023/11/13 13:38:34 對(duì)比
    硅片清洗機(jī)兆聲無損清洗機(jī)兆聲無損清洗設(shè)備兆聲無損硅片清洗單片晶圓清洗機(jī)
  • 等離子體增強(qiáng)MOCVD

    等離子體增強(qiáng)MOCVD：針對(duì)InGaN及AlGaN沉積工藝所研發(fā)的臺(tái)式等離子輔助金屬有機(jī)化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)（PA-MOCVD）,該系統(tǒng)具有5個(gè)鼓泡裝置（各帶獨(dú)立的...

    型號(hào)： 所在地：國外參考價(jià)： 面議更新時(shí)間：2023/11/13 13:33:53 對(duì)比
    等離子體增強(qiáng)MOCVDPA-MOCVDPAMOCVD等離子體增強(qiáng)MOCVD
  • 金屬有機(jī)化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)MOVPE設(shè)備

    金屬有機(jī)化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)MOVPE設(shè)備：針對(duì)InGaN及AlGaN沉積工藝所研發(fā)的臺(tái)式等離子輔助（PA-MOCVD）,該系統(tǒng)具有5個(gè)鼓泡裝置（各帶獨(dú)立的冷卻槽）...

    型號(hào)： 所在地：國外參考價(jià)： 面議更新時(shí)間：2023/11/13 13:31:57 對(duì)比
    MOCVD設(shè)備金屬有機(jī)化學(xué)氣相沉等離子體輔助MOCVDMOVPE設(shè)備PA-MOCVD報(bào)價(jià)
  • SWC-3000兆聲晶圓（掩模版）清洗機(jī)

    SWC-3000兆聲晶圓（掩模版）清洗機(jī)：Nano-Master兆聲單晶圓及掩模版清洗機(jī)提供高可重復(fù)性、高均勻性及兆聲清洗。它可以在一個(gè)工藝步驟中包含了的無損兆...

    型號(hào)： 所在地：國外參考價(jià)： 面議更新時(shí)間：2023/11/13 13:29:53 對(duì)比
    兆聲無損清洗機(jī)進(jìn)口掩模板清洗機(jī)單片晶圓清洗機(jī)兆聲無損硅片清洗機(jī)兆聲無損清洗設(shè)備
  • Plasma Source等離子體源

    NANO-MASTER （那諾-馬斯特）可根據(jù)客戶需求，提供合適的Plasma Source等離子體源，可以是空心陰極等離子源，也可以是感應(yīng)耦合等離子源。等離子...

    型號(hào)： 所在地：國外參考價(jià)： 面議更新時(shí)間：2023/11/13 13:27:49 對(duì)比
    等離子體源ICP等離子源考夫曼離子源霍爾離子源RF射頻離子源
  • Platens樣品臺(tái)

    NANO-MASTER（那諾-馬斯特）Platens樣品臺(tái)，又稱為基板或加熱板，是真空鍍膜設(shè)備中常用到關(guān)鍵部件。因此樣品臺(tái)可以整合到RIE刻蝕、ICP刻蝕、PE...

    型號(hào)： 所在地：國外參考價(jià)： 面議更新時(shí)間：2023/11/13 13:25:58 對(duì)比
    樣品臺(tái)加熱臺(tái)高溫樣品臺(tái)低溫樣品臺(tái)
  • NMC-4000（M）PA-MOCVD設(shè)備

    NMC-4000（M）PA-MOCVD設(shè)備：針對(duì)InGaN及AlGaN沉積工藝所研發(fā)的臺(tái)式等離子輔助金屬有機(jī)化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)（PA-MOCVD）,該系統(tǒng)具有5個(gè)...

    型號(hào)： 所在地：國外參考價(jià)： 面議更新時(shí)間：2023/11/13 13:23:52 對(duì)比
    MOCVD設(shè)備金屬有機(jī)化學(xué)氣相沉等離子體輔助MOCVDMOVPE設(shè)備PA-MOCVD報(bào)價(jià)
  • NDT-4000熱真空試驗(yàn)箱

    NDT-4000熱真空試驗(yàn)箱：NDT-4000是NANO-MASTER進(jìn)口熱真空系統(tǒng)，用于極真空及可控均勻的加熱和冷卻循環(huán)套件下測試器件或樣品。該系統(tǒng)具有計(jì)算機(jī)...

    型號(hào)： 所在地：國外參考價(jià)： 面議更新時(shí)間：2023/11/13 13:22:07 對(duì)比
    納米衛(wèi)星測試系統(tǒng)太空環(huán)境模擬系統(tǒng)進(jìn)口熱真空系統(tǒng)太空器件測試系統(tǒng)熱真空試驗(yàn)箱
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