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那諾中國有限公司
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24 2020-7

直擊渭南師范學(xué)院原子層沉積安裝現(xiàn)場

上周NMC專業(yè)的售后服務(wù)工程師至渭南師范學(xué)院完成了原子層沉積系統(tǒng)NLD-3000的安裝調(diào)試,并順利驗收!NLD-3000是一款PC全自動工藝控制的臺式ALD系統(tǒng),包含完整的安全聯(lián)鎖功能,能夠沉積氧化物...

26 2019-8

中標(biāo)喜訊|那諾中國投標(biāo)競得西安電子科技大學(xué)PECVD采購招標(biāo)項目

2019年7月16日,我司成功中標(biāo)西安電子科技大學(xué)等離子增強化學(xué)氣相沉積設(shè)備采購招標(biāo)項目。本項目選用NANO-MASTER設(shè)計生產(chǎn)的NPE-4000系統(tǒng),該系統(tǒng)為緊湊型設(shè)計PC控制的獨立式下游式PEC...

26 2019-8

中標(biāo)喜訊|那諾中國投標(biāo)競得上海交通大學(xué)掩模板兆聲清洗機(jī)采購項目

近日,那諾中國在“上海交通大學(xué)電子信息與電氣工程學(xué)院掩模板兆聲清洗機(jī)采購項目”的競標(biāo)中,順利中標(biāo),這無疑是對NANO-MASTER綜合實力的又一次肯定!本套設(shè)備是NANO-MASTER,INC.開發(fā)的...

13 2017-10

ALD系統(tǒng)應(yīng)用范圍再次升級

隨著NANO-MASTER*技術(shù)的ICP源的深入應(yīng)用,對于大面積的基片提供均勻高品質(zhì)的薄膜生長得以實現(xiàn)。到目前為止,NANO-MASTER的ALD系統(tǒng)可以支持在任意尺寸的襯底上的擴(kuò)展,這給顯示和照明等...

12 2017-9

北京理工大學(xué)RIE-PECVD順利安裝驗收

今年7月,北京理工的RIE-PECVD順利安裝驗收。這套設(shè)備是Nano-Master極富特色的雙系統(tǒng)設(shè)備,一套設(shè)備中實現(xiàn)反應(yīng)離子刻蝕工藝,同時具備等離子增強化學(xué)氣相沉積的工藝能力,既避免客戶擔(dān)心的交叉...

17 2017-8

深圳先進(jìn)院磁控濺射順利安裝實施

八月初,深圳先進(jìn)院磁控濺射NSC-3500安裝條件已具備,NANO-MASTER的工程師們?yōu)樯钲谙冗M(jìn)院安裝調(diào)試實施。本套NSC-3500是帶機(jī)械手臂的全自動控制型號,標(biāo)準(zhǔn)配置帶有水冷或者加熱(zui高...

3 2016-8

微波等離子清洗機(jī)技術(shù)的Z大特點介紹

微波等離子清洗機(jī)的機(jī)理,主要是依靠等離子體中活性粒子的“活化作用”達(dá)到去除物體表面污漬的目的。就反應(yīng)機(jī)理來看,等離子體清洗通常包括以下過程:無機(jī)氣體被激發(fā)為等離子態(tài);氣相物質(zhì)被吸附在固體表面;被吸附基...

17 2016-6

晶圓清洗機(jī)主要結(jié)構(gòu)特點及工藝流程

一.產(chǎn)品結(jié)構(gòu)晶圓清洗機(jī)主要結(jié)構(gòu)特點:1、采用三套獨立的電腦控制機(jī)械臂自動化作業(yè)2、采用第三代技術(shù),全面完善的防酸防腐措施,保護(hù)到機(jī)器每一個角落3、全自動補液技術(shù)4、*的硅片干燥前處理技術(shù),保證硅片干燥...

15 2016-6

微波等離子清洗機(jī)在封裝工藝中的應(yīng)用及產(chǎn)品特點

微波等離子清洗機(jī)(plasmacleaner)也叫等離子清潔機(jī),或者等離子表面處理儀,是一種全新的高科技技術(shù),利用等離子體來達(dá)到常規(guī)清洗方法無法達(dá)到的效果。等離子體是物質(zhì)的一種狀態(tài),也叫做物質(zhì)的第四態(tài)...

15 2016-3

單片晶圓清洗機(jī)的詳細(xì)資料概述

單片晶圓清洗機(jī)是一款帶有小占地面積的理想設(shè)備,并且很容易安裝在空間有限的超凈間中。該系列設(shè)備都具有出眾的清洗能力,并可用于非常廣泛的基片。單片晶圓清洗機(jī)提供了可控的化學(xué)試劑滴膠能力,這使得顆粒從基片表...

12 2016-1

反應(yīng)離子刻蝕機(jī)檢驗操作及判斷

反應(yīng)離子刻蝕機(jī)是一款獨立式RIE反應(yīng)離子刻蝕系統(tǒng),配套有淋浴頭氣體分布裝置以及水冷RF樣品。具有不銹鋼柜子以及13"的上蓋式圓柱形鋁腔,便于晶圓片裝載.腔體有兩個端口:一個帶有2"的視窗,另一個空置用...

17 2015-12

帶RIE等離子刻蝕機(jī)處理模式介紹

帶RIE等離子刻蝕機(jī)是干法刻蝕中zui常見的一種形式,其原理是暴露在電子區(qū)域的氣體形成等離子體,由此產(chǎn)生的電離氣體和釋放高能電子組成的氣體,從而形成了等離子或離子,電離氣體原子通過電場加速時,會釋放足...

23 2015-11

光學(xué)元件鍍膜機(jī)使用步驟

光學(xué)元件鍍膜機(jī)主要指一類需要在較高真空度下進(jìn)行的鍍膜,具體包括很多種類,包括真空離子蒸發(fā),磁控濺射,MBE分子束外延,PLD激光濺射沉積等很多種。主要思路是分成蒸發(fā)和濺射兩種。光學(xué)元件鍍膜機(jī)使用步驟電...

9 2015-11

鍍膜機(jī)設(shè)備說明書

鍍膜機(jī)設(shè)備說明書和設(shè)備上儀表盤指針顯示及各旋鈕下的標(biāo)注說明。①檢查真空鍍膜機(jī)各操作控制開關(guān)是否在"關(guān)"位置。②打開總電源開關(guān),設(shè)備送電。③低壓閥拉出。開充氣閥,聽不到氣流聲后,啟動升鐘罩閥,鐘罩升起。...

28 2015-10

進(jìn)口微波去膠機(jī)*款適用于遠(yuǎn)程控制的設(shè)備

進(jìn)口微波去膠機(jī)是石英腔的微波等離子系統(tǒng),可以安裝到超凈間墻上。該系列的微波等離子系統(tǒng)可以用于批處理,也可以作為單片處理,系統(tǒng)為計算機(jī)全自動控制的系統(tǒng)。典型工藝包含:大劑量離子注入后的光刻膠去除;干法刻...

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