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NRE-4000(ICPA)全自動ICP刻蝕系統:自動上下載片,帶ICP等離子源和偏壓樣品臺的高速刻蝕系統,系統可以達到高速率、低損傷、高深寬比的刻蝕效果。可實...
NRE-4000(ICPM)ICP等離子刻蝕機:是帶ICP等離子源和偏壓樣品臺的高速刻蝕系統,系統可以達到高速率、低損傷、高深寬比的刻蝕效果。可實現范圍廣泛的刻...
NDR-4000(A)全自動DRIE深反應離子刻蝕:全自動上下載片,帶低溫晶圓片冷卻和偏壓樣品臺的深硅刻蝕系統,帶8“ ICP源。系統配套500L/S抽速的渦輪...
NDR-4000(M)DRIE深反應離子刻蝕:是帶低溫晶圓片冷卻和偏壓樣品臺的深硅刻蝕系統,帶8“ ICP源。系統配套500L/S抽速的渦輪分子泵,可以使得工藝...
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