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當(dāng)前位置:那諾中國有限公司>>清洗去膠系統(tǒng)>>單晶圓/掩模版兆聲清洗機(jī)>> SWC系列/LSC系列硅片清洗機(jī)
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產(chǎn)品型號(hào)SWC系列/LSC系列
品 牌其他品牌
廠商性質(zhì)生產(chǎn)商
所 在 地國外
更新時(shí)間:2023-11-13 13:38:34瀏覽次數(shù):1821次
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硅片清洗機(jī)概述:兆聲和清洗技術(shù)的發(fā)展,對(duì)MEMS和半導(dǎo)體等領(lǐng)域的晶圓和掩模版清洗提供了的水平,可以幫助用戶獲得干凈的晶圓片和掩模版。
NANO-MASTER提供兆聲單晶圓&掩模清洗(SWC)系統(tǒng),用于*進(jìn)的無損兆聲清洗。可以適用于易受損的帶圖案或無圖案的基片,包含帶保護(hù)膜的掩模版。為了在確保不損傷基片的情況下達(dá)到優(yōu)化的清洗效果,兆聲能量的密度必須保持在稍稍低于樣片上任意位置上的損傷閾值。NANO-MASTER的技術(shù)確保了聲波能量均勻分布到整個(gè)基片表面,通過分布能量的z大化支持z理想的清洗,同時(shí)保證在樣片的損傷閾值范圍內(nèi)。
SWC系統(tǒng)提供了可控的化學(xué)試劑滴膠能力,這使得顆粒從基片表面的去除能力得以進(jìn)一步加強(qiáng)。SWC和LSC具備對(duì)點(diǎn)試劑滴膠系統(tǒng),可以*節(jié)省化學(xué)試劑的用量的。滴膠系統(tǒng)支持可編程的化學(xué)試劑混合能力,提供了可控的化學(xué)試劑在整個(gè)基片上的分布。
硅片清洗機(jī)應(yīng)用:
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