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Q240微波等離子去膠清洗機：Q系列等離子清洗機是石英腔的微波等離子系統，可以安裝到超凈間墻上。該系列的微波等離子系統可以用于批處理，也可以作為單片處理，系統為...

Q235微波等離子去膠清洗機：Q系列等離子清洗機是石英腔的微波等離子系統，可以安裝到超凈間墻上。該系列的微波等離子系統可以用于批處理，也可以作為單片處理，系統為...

Q150微波等離子去膠清洗機：Q系列等離子清洗機是石英腔的微波等離子系統，可以安裝到超凈間墻上。該系列的微波等離子系統可以用于批處理，也可以作為單片處理，系統為...

ASTRO96全自動微波等離子清洗系統：Alpha等離子系統ASTRO96是一款低壓微波等離子系統，用于鍵合、模塑、焊錫球黏合前的*進芯片封裝清洗，以及倒裝芯片...

AL76C立式微波等離子去膠清洗機：AL76C為一體式緊湊型等離子系統，適用于批量生產，也可以i滿足研發及實驗室應用。并且，此系統可以滿足360度的芯片封裝需要...

AL76微波等離子去膠清洗機：AL76等離子系統適用于批量生產，也可以i滿足研發及實驗室應用。并且，此系統可以滿足360度的芯片封裝需要、工業、醫藥等領域。AL...

AL18微波等離子去膠清洗機：AL18等離子系統適用于小批量生產和研發的*設備。并且，此系統可以滿足360度的芯片封裝需要。AL18系統是一款創新型的通用設備，...

NIE-3500（M）離子束清洗系統：是一款手動放片/取片，但工藝過程為全自動計算機控制的緊湊型獨立的立柜式離子束刻蝕系統，可以用于表面清洗、表面處理、離子銑。

NIE-3500（A）全自動離子束清洗系統：是一款自動放片/取片，并且工藝過程為全自動計算機控制的緊湊型獨立的立柜式離子束刻蝕系統，可以用于表面清洗、表面處理、...

NIE-3000離子束清洗系統：是一款手動放片/取片，但工藝過程為全自動計算機控制的臺式離子束刻蝕系統，可以用于表面清洗、表面處理、離子銑等。

NPD-4000（A）全自動PLD脈沖激光沉積系統：脈沖激光束聚焦在固體靶的表面上。固體表面大量吸收電磁輻射導致靶物質快速蒸發。蒸發的物質由容易逃出與電離的核素...

NPD-4000（M）PLD脈沖激光沉積系統：脈沖激光束聚焦在固體靶的表面上。固體表面大量吸收電磁輻射導致靶物質快速蒸發。蒸發的物質由容易逃出與電離的核素組成。...

NEE-4000（A）全自動電子束蒸發系統：NEE-4000電子束蒸發系統為雙腔配置，樣品臺位于主腔體，二級腔體則用于安置電子束源。兩腔體之間的門閥作為預真空鎖...

NEE-4000（M）電子束蒸發系統：NEE-4000電子束蒸發系統為雙腔體的配置，樣品臺位于主腔體，二級腔體則用于安置電子束源。兩個腔體之間的門閥可以作為預真...

NTE-4000（A）全自動熱蒸發系統：全自動立式熱蒸發系統，在有機物和金屬沉積方面具有廣泛的應用。設備具有占地面積小、干凈、均勻、可控及可重復的工藝特點。具有...

NTE-4000（M）熱蒸發系統：NTE-4000是PC控制的立式熱蒸發系統，在有機物和金屬沉積方面具有廣泛的應用。設備具有占地面積小、干凈、均勻、可控及可重復...

NTE-3500（A）全自動熱蒸發系統：全自動立式熱蒸發系統，在有機物和金屬沉積方面具有廣泛的應用。設備具有占地面積小、干凈、均勻、可控及可重復的工藝特點。具有...

NTE-3500（M）熱蒸發系統：NTE-3500是PC控制的緊湊型立式熱蒸發系統，在有機物和金屬沉積方面具有廣泛的應用。設備具有占地面積小、干凈、均勻、可控及...

NTE-3000熱蒸發系統：NTE-3000是PC控制的臺式熱蒸發系統，在有機物和金屬沉積方面具有廣泛的應用。設備具有占地面積小、干凈、均勻、可控及可重復的工藝...

NMC-4000（A）全自動PAMOCVD系統：針對InGaN及AlGaN沉積工藝所研發的臺式等離子輔助金屬有機化學氣相沉積系統（PA-MOCVD）,該系統具有...