PLD激光脈沖沉積技術

NPD-4000（M）PLD脈沖激光沉積系統機制：

PLD的系統設備簡單，相反，它的原理卻是非常復雜的物理現象。它涉及高能量脈沖輻射沖擊固體靶時，激光與物質之間的所有物理相互作用，亦包括等離子羽狀物的形成，其后已熔化的物質通過等離子羽狀物到達已加熱的基片表面的轉移，及z后的膜生成過程。所以，PLD一般可以分為以下四個階段：

1. 激光輻射與靶的相互作用

2. 熔化物質的動態

3. 熔化物質在基片的沉積

4. 薄膜在基片表面的成核（nucleation）與生成

在*階段，激光束聚焦在靶的表面。達到足夠的高能量通量與短脈沖寬度時，靶表面的一切元素會快速受熱，到達蒸發溫度。物質會從靶中分離出來，而蒸發出來的物質的成分與靶的化學計量相同。物質的瞬時溶化率大大取決於激光照射到靶上的流量。熔化機制涉及許多復雜的物理現象，例如碰撞、熱，與電子的激發、層離，以及流體力學。

在第二階段，根據氣體動力學定律，發射出來的物質有移向基片的傾向，并出現向前散射峰化現象。空間厚度隨函數cosnθ而變化，而n>>1。激光光斑的面積與等離子的溫度，對沉積膜是否均勻有重要的影響。靶與基片的距離是另一個因素，支配熔化物質的角度范圍。亦發現，將一塊障板放近基片會縮小角度范圍。

第三階段是決定薄膜質量的關鍵。放射出的高能核素碰擊基片表面，可能對基片造成各種破壞。下圖表明了相互作用的機制。高能核素濺射表面的部分原子，而在入射流與受濺射原子之間，建立了一個碰撞區。膜在這個熱能區（碰撞區）形成后立即生成，這個區域正好成為凝結粒子的z佳場所。只要凝結率比受濺射粒子的釋放率高，熱平衡狀況便能夠快速達到，由於熔化粒子流減弱，膜便能在基片表面生成。

NPD-4000（M）PLD脈沖激光沉積系統概述：該系統為PC計算機全自動控制的立柜式系統，具有占地面積小、性價比高的優點。占地面積尺寸為26"x42"x44"。不銹鋼立柜，可以選擇Auto Load/Unload配置。

主要優點：

1. 易獲得期望化學計量比的多組分薄膜，即具有良好的保成分性；

2. 沉積速率高，試驗周期短，襯底溫度要求低，制備的薄膜均勻；

3. 工藝參數任意調節，對靶材的種類沒有限制；

4. 發展潛力巨大，具有極大的兼容性；

5. 便于清潔處理，可以制備多種薄膜材料。