IBM離子銑

NIM-4000（M）離子銑刻蝕系統產品概述：利用離子束轟擊固體表面的濺射作用，剝離加工各種幾何圖形，通過大面積離子源產生的離子束，可對固體材料濺射刻蝕，對固體器件進行微細加工。該系統為全自動上下載片，計算機全自動控制的系統。

NANO-MASTER技術已經證明了可以把基片溫度控制在50° C以內的同時，旋轉晶圓片以達到想要的均勻度。

NIM-4000（M）離子銑刻蝕系統產品特點：

• 14.5”不銹鋼立體離子束腔體
• 16cm DC離子槍1200eV,650mA, 氣動不銹鋼遮板
• 離子束中和器
• 氬氣MFC
• 6”水冷樣品臺
• 晶片旋轉速度3、10RPM，真空步進電機
• 步進電機控制晶圓片傾斜
• 自動上下載晶圓片
• 典型刻蝕速率：銅200 ?/min, 硅：500 ?/min
• 6”范圍內，刻蝕均勻度+/-3%
• 極限真空5x10-7Torr，20分鐘內可達到10-6Torr級別（配套500 l/s渦輪分子泵）
• 配套1000 l/s渦輪分子泵，極限真空可達8x10-8Torr
• 磁控濺射Si3N4以保護被刻蝕金屬表面被氧化
• 基于LabView軟件的PC計算機全自動控制
• 菜單驅動，4級密碼訪問保護
• 完整的安全聯鎖