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NIE-3500(A)全自動IBE離子束刻蝕

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產(chǎn)品型號

品       牌其他品牌

廠商性質(zhì)生產(chǎn)商

所  在  地國外

更新時間:2023-11-13 10:44:30瀏覽次數(shù):2175次

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產(chǎn)地類別 進口 應(yīng)用領(lǐng)域 醫(yī)療衛(wèi)生,化工,生物產(chǎn)業(yè),電子,制藥
NIE-3500(A)全自動IBE離子束刻蝕:是一款自動放片/取片,并且工藝過程為全自動計算機控制的緊湊型獨立的立柜式離子束刻蝕系統(tǒng),可以用于表面清洗、表面處理、離子銑。

IBE離子束刻蝕

NIE-3500(A)全自動IBE離子束刻蝕產(chǎn)品概述:該系統(tǒng)為全自動上下載片,并且通過計算機全自動實現(xiàn)工藝控制的緊湊型獨立的立柜式離子束刻蝕系統(tǒng),系統(tǒng)具有結(jié)構(gòu)緊湊、功能強大、自動化程度高、模塊化設(shè)計易于維護、低成本的優(yōu)勢。該系統(tǒng)所配套的所有核心組件均為。

該IBE離子束刻蝕系統(tǒng)具有很強的適應(yīng)性,可根據(jù)不同的應(yīng)用而按不同的配置進行建構(gòu)。多樣的樣片夾具和離子源配置可支持用戶不同的應(yīng)用。用于離子銑系統(tǒng)的樣片夾具可以支持±90°傾斜、旋轉(zhuǎn)、水冷和背氦冷卻。

我們的IBE離子束刻蝕系統(tǒng)可以把基片溫度保持在50°C以內(nèi)的能力。通過傾斜和旋轉(zhuǎn),可以刻蝕出帶斜坡的槽,并且改善了對側(cè)壁輪廓和徑向均勻度的控制。不同的選配項可以用于不同的網(wǎng)格配置以及中和器。濺射選配項可以支持對新刻蝕金屬表面的涂覆,以防氧化。此外,還可以選配單晶圓自動上下片功能。該系列IBM離子銑系統(tǒng)或IBE離子束刻蝕系統(tǒng)可以配置RF ICP離子源,升級為RIBE反應(yīng)離子束刻蝕系統(tǒng)。

NIE-3500(A)全自動IBE離子束刻蝕產(chǎn)品特點:

  • 低成本
  • 帶預(yù)真空鎖,自動上下載片
  • 離子束:高達2KV/10mA
  • 離子電流密度100-360uA/cm2
  • 離子束直徑:4",5",6"
  • 兼容反應(yīng)及非反應(yīng)氣體(Ar, O2, CF4,Cl2)
  • 極限真空5x10-7Torr
  • 260l/s渦輪分子泵,串接500 l/min干泵
  • 14"不銹鋼或鋁質(zhì)腔體
  • 水冷旋轉(zhuǎn)/傾斜樣品臺(NIE-3500)
  • 自動上下載片(NIE-3500)
  • 基于LabView軟件的PC計算機全自動控制
  • 占地面積30"x30"

NIE-3500(A)全自動IBE離子束刻蝕設(shè)備應(yīng)用:

  • 表面處理
  • 離子銑
  • 表面清洗
  • 帶活性氣體的離子束刻蝕:  光柵刻蝕,以及SiO2,Si和金屬的深槽刻蝕

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