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那諾中國(guó)有限公司
中級(jí)會(huì)員 | 第10年

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NM-LTP-Platens低溫樣品臺(tái)
  • NM-LTP-Platens低溫樣品臺(tái)
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貨物所在地:國(guó)外

地: 美國(guó)

更新時(shí)間:2024-11-04 21:00:07

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NANO-MASTER(那諾-馬斯特)Platens低溫樣品臺(tái),又稱(chēng)為基板或加熱板,是真空鍍膜設(shè)備中常用到關(guān)鍵部件。因此樣品臺(tái)可以整合到RIE刻蝕、ICP刻蝕、PECVD、ALD等刻蝕和沉積設(shè)備中,給晶圓等樣片進(jìn)行均勻加熱和冷卻處理,為微納米薄膜工藝提供精確的溫度環(huán)境。

NANO-MASTER Platens低溫樣平臺(tái)

NANO-MASTER(那諾-馬斯特)Platens低溫樣品臺(tái)使用技術(shù),加熱均勻性*。NANO-MASTER的樣平臺(tái)(或稱(chēng)為基板、熱板)可以加入射頻偏壓、水冷卻、通過(guò)模塊控制300°C范圍的溫度。基板的高度可調(diào)節(jié),基片可旋轉(zhuǎn),真空腔體內(nèi)沒(méi)有任何引線。任何地方不會(huì)出現(xiàn)短路或電弧,因?yàn)樗幸€、電熱偶和冷卻水管道都保持在大氣壓下。NM低溫樣品臺(tái)可以直接安裝到你的系統(tǒng)中,無(wú)論是RIE刻蝕、ICP刻蝕、ALE刻蝕,還是PECVD、ALD等沉積設(shè)備中,我們的基板都可以很方便的配套使用

Platens低溫樣品臺(tái)可應(yīng)用的設(shè)備:

  • RIE反應(yīng)離子刻蝕機(jī)
  • ICP感應(yīng)耦合等離子刻蝕機(jī)
  • ALE原子層刻蝕設(shè)備
  • PECVD等離子增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積設(shè)備
  • ALD原子層沉積設(shè)備
  • 其他設(shè)備

?Platens低溫樣品臺(tái)尺寸:

  • 1-12英寸
  • 可定制

Platens不同型號(hào)對(duì)應(yīng)溫度上限:

  • NM-LTP,低溫?zé)岚澹瑉ui高可加熱到300°C
  • NM-MTP,中溫?zé)岚澹瑉ui高可加熱到500°C
  • NM-HTP,高溫?zé)岚澹瑉ui高可加熱到700°C

?Different models allow for different temperature limits:

  • NM-LTP - Low Temperature Platen heatable up to 300°C
  • NM-MTP - Mid Temperature Platen heatable up to 500°C
  • NM-HTP - High Temperature Platen heatable up to 700°C

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