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日本ULVAC愛發科半導體干法刻蝕設備研發
日本ULVAC愛發科半導體干法刻蝕設備研發
研發用NLD干法蝕刻 NLD-570是ULVAC原創開發的使用磁中性線等離子體（NLD）的低壓、低電子溫度、高密度等離子體的干法蝕刻裝置。
與ICP法相比，NLD具有更低的壓力、更高的密度和更低的電子溫度等離子，因此適合加工石英、玻璃、晶體、LN、LT基板等。
耐熱玻璃和硼硅酸鹽玻璃等雜質較多的玻璃可以蝕刻出優異的形狀和表面光滑度。
厚膜抗蝕劑還可用作石英和玻璃深蝕刻（100μm以上）的掩模。
可進行高速蝕刻（石英>1μm/min、Pyrex>0.8μm/min）
可以添加盒室。
光學器件（衍射光柵、調制器、光波導、光開關等）、凹凸微透鏡、光子晶體、流體路徑（μ-TAS）創建等。
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