特征

• 與其他ICP方式相比，磁場(chǎng)輔助可在更低的壓力、更低的電子溫度和更高的密度下產(chǎn)生等離子體，并且可以進(jìn)行從離子蝕刻到自由基蝕刻的廣泛等離子體控制，因此作為開發(fā)工具適用于各種工藝。

• 配備“星形電極"，防止沉積物粘附在射頻輸入窗口上。該設(shè)備還具有加熱功能，其設(shè)計(jì)注重再現(xiàn)性和穩(wěn)定性。

• 我們實(shí)現(xiàn)了作為研發(fā)工具的可靠性，例如高可靠性的運(yùn)輸機(jī)器人、簡(jiǎn)單的裝置結(jié)構(gòu)和易于維護(hù)。

• 豐富的可選功能，可增設(shè)暗盒室。

• NE-5700和NE-7800可兼容同一個(gè)腔體配置的多個(gè)腔體，適用于大規(guī)模生產(chǎn)線。

目的

• 復(fù)合材料（LED、LD、高頻器件、功率器件）。

• 電極、金屬布線、有機(jī)薄膜、陶瓷等加工

• 用于加工難以蝕刻的材料，如鐵電體、貴金屬和磁性薄膜。

• 納米壓印、NEMS、MEMS、各種傳感器。

• 生物芯片、微流控器件、光子晶體等

規(guī)格