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日本ULVAC愛發科半導體干法刻蝕設備
日本ULVAC愛發科半導體干法刻蝕設備
適合量產的NE-5700/NE-7800干法刻蝕設備是一款可擴展的刻蝕設備，支持從一個腔室到多個腔室，強調性價比。
除1個腔體外，還可配備磁場ICP（ISM）、NLD等離子體源、灰化腔體、CCP腔體，兼容多種刻蝕工藝。
配備星形電極和各種溫度控制功能，可實現過程的再現性和穩定性。
易于維護的結構，停機時間最短，全面的備份系統，包括再生清潔、零件供應、維護和培訓服務。
半導體技術研究院提供完善的工藝支持系統。
化合物（LED、LD、高頻器件）和功率器件（IGBT 布線加工、SiC 加工）。
用于金屬布線、層間絕緣膜（樹脂類）、柵電極加工工序。
用于蝕刻鐵電材料和貴金屬。
用于加工磁性材料。
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