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深圳市矢量科學儀器有限公司

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涂膠顯影半自動機臺

參  考  價:面議
具體成交價以合同協議為準

產品型號KS-M300

品牌芯源

廠商性質經銷商

所在地沈陽市

更新時間:2024-09-06 11:03:22瀏覽次數:251次

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KS-M300半自動機臺可用于單片晶片涂膠、顯影、噴膠、清洗、刻蝕、去膠工藝及掩膜板涂膠、顯影、清洗工藝。適用于小批量生產的工藝試驗和生產線。占地面積小,操作時手動上下片,工藝過程可自動完成。

1. 產品概述

KS-M300半自動機臺是一款多功能設備,專為單片晶片的涂膠、顯影、噴膠、清洗、刻蝕及去膠工藝等一系列復雜工藝流程而設計。同時,它也可以高效地處理掩膜板的涂膠、顯影和清洗工藝。這款機器特別適合小批量生產的工藝試驗和生產線,不僅滿足了科研人員和工程師在實驗階段的需求,也為小規模生產提供了高效的解決方案。

KS-M300的設計考慮到操作的便利性和空間的利用,其占地面積小,可以輕松適應不同的實驗室或生產環境。在操作過程中,用戶只需手動上下片,其他工藝步驟均可由設備自動完成。這一特點大大減少了操作人員的工作負擔,提高了工作效率。同時,自動化的工藝流程也保證了工藝參數的穩定性和一致性,為生產過程提供了可靠的保證。

此外,KS-M300的多功能性使得用戶可以靈活配置所需的工藝,從而滿足各種特定需求,無論是科研實驗還是小批量生產,均能輕松應對。這種靈活性不僅提高了設備的利用率,也為用戶節省了時間和資金投入。

2. 產品優勢:    

占地空間小,配置靈活
易于操作,界面友好
保養維護方便

3. 應用域:

LED
封裝
MEMS
OLED等


有掩膜光刻機

1.手動、半自動、全自動有掩膜光刻機$r$n2.高分辨率掩模對準光刻,

無掩膜/激光直寫光刻機

無掩膜/激光直寫光刻機 參數:1. 光源:375 nm、385 nm、

電子束光刻系統

電子束光刻系統 技術參數:$r$n1.最小線寬≤8nm 光柵周期

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