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深圳市矢量科學儀器有限公司

當前位置:深圳市矢量科學儀器有限公司>>半導體前道工藝設備>>1 光刻設備>> UV Litho-ACA無掩膜/激光直寫光刻機

無掩膜/激光直寫光刻機

參  考  價:面議
具體成交價以合同協議為準

產品型號UV Litho-ACA

品牌其他品牌

廠商性質經銷商

所在地深圳市

更新時間:2024-09-06 14:14:13瀏覽次數:2111次

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無掩膜/激光直寫光刻機 參數:1. 光源:375 nm、385 nm、405 nm 激光器
2. 線寬:0.5μm、0.6μm、1.0μm、1.5μm3. 光刻效率:可達到3000mm2/min@5μm4. XY行程:55~205mm5. 樣品尺寸:最小3mm*3mm 最大8 inch6.應用領域:生物芯片、功率芯片光刻、掩膜版制造、3D衍射光學元件、*進芯片封裝、光通訊。

1.產品概述:

利用紫外光源對紫外敏感的光刻膠進行空間 選擇性的曝光,進而將設計好電路版圖轉移到 硅片上形成集成電路,這一工藝就是紫外光刻 技術。光刻機的分辨率和套刻精度直接決定了 所制造的集成電路的集成度,也成為了評價光 刻設備品質的關鍵指標。激光直寫設備具備很 高的靈活性,且可以達到較高的精度,但由于 是逐行掃描,曝光效率較低。托托科技的無掩 模版光刻設備基于空間光調制器(DMD/DLP) 的技術,實現了高速、高精度、高靈活性的紫外光刻。

2.產品參數

光源:375 nm、385 nm、405 nm 激光器

線寬:0.5μm、0.6μm、1.0μm、1.5μm              

光刻效率:可達到3000mm2/min@5μm

XY行程:55~205mm

樣品尺寸:最小3mm*3mm  最大8 inch

應用領域:生物芯片、功率芯片光刻、掩膜版制造、3D衍射光學元件、*進芯片封裝、光通訊芯片光刻


有掩膜光刻機

1.手動、半自動、全自動有掩膜光刻機$r$n2.高分辨率掩模對準光刻,

無掩膜/激光直寫光刻機

無掩膜/激光直寫光刻機 參數:1. 光源:375 nm、385 nm、

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電子束光刻系統 技術參數:$r$n1.最小線寬≤8nm 光柵周期

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