產(chǎn)品概述：
ULTRA半導體光掩模光刻機是門用于成熟半導體光掩模的合格激光掩模機。半導體光掩模用于制造電子設(shè)備，包括微控制器、電源管理、LED、物聯(lián)網(wǎng) （IoT） 和 MEMS。
操作 | |
用戶界面（軟件） |
半兼容 GUI |
大寫入?yún)^(qū)域 | 228 x 228 mm2 （可根據(jù)要求提供其他尺寸） |
基板尺寸 | 4 英寸、5 英寸、6 英寸、7 英寸和 9 英寸口罩（可根據(jù)要求提供更大的和其他基材） |
系統(tǒng)特點 | |
光學 | 0.9 NA物鏡 |
激光 | 355nm波長的高功率二管泵浦固體激光器 |
對焦系統(tǒng) | 實時光學自動對焦 |
對準 | 攝像系統(tǒng) |
數(shù)據(jù)路徑 |
實時壓縮 |
空間光調(diào)制器 |
頻率 350 kHz |
自動化 |
全自動口罩處理，帶兩個大 9 英寸的輸送站;可選的 SECS/GEM 協(xié)議 |
系統(tǒng)尺寸 |
系統(tǒng) / 電子機架 |
寬度 [mm] | 2995 / 800 |
深度 [mm] | 1652 / 650 |
高度 [mm] | 2102 / 1800 |
重量 [kg] | 3400 / 180 |
安裝要求 | |
電氣 | 400 VAC ± 5%，50/60 Hz，16A，3 相 |
壓縮空氣 | 7 - 10 bar （不含油或其他殘留物） |
化工儀器網(wǎng)