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深圳市矢量科學儀器有限公司

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有掩膜光刻機

參  考  價:面議
具體成交價以合同協議為準

產品型號VPG 200 / VPG 400

品牌STELLA/海德堡儀器

廠商性質經銷商

所在地深圳市

更新時間:2024-09-04 16:25:58瀏覽次數:241次

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VPG 200 / VPG 400 體積圖形發生器是光刻系統,專為 i-line 光刻膠的多用途掩模制造而設計。它們支持所有標準的中小型面罩尺寸,最大尺寸為 410 x 410 mm++2.應用包括 MEMS 掩模制造、先進封裝、3D 集成、LED 和 OLED 掩模以及微流體。

VPG 具有經過現場驗證的超高速曝光引擎和高功率 DPSS 激光器。其技術將高分辨率、準確性和出色的圖像質量與高吞吐

1. 產品概述:

VPG 200 / VPG 400 體積圖形發生器是光刻系統,為 i-line 光刻膠的多用途掩模制造而設計。它們支持所有標準的中小型面罩尺寸,大尺寸為 410 x 410 mm++2.

寫入模式

I-QX系列

一代

二代

三代

寫作表現





小結構尺寸 [μm]

0.75

0.75

1

2

小行數和間距 [μm]

1.5

1.5

2

4

地址網格 [nm]

12.5

12.5

25

50

邊緣粗糙度 [3σnm]

30

40

50

70

CD均勻度 [3σ, nm]

55

65

75

110

拼接穩定性 [3σ, nm]

30

60

70

100

2 層對準 [nm]

225

225

350

500

寫入速度 [mm2/min]

485

970

3150

6400

100 x 100 mm 的曝光時間2面積 [min]

28

14

5.6

3.5

系統特點


光源

355 nm 的高功率 DPSS 激光器

大基板尺寸

9 英寸 x 9 英寸/17 英寸 x 17 英寸

基板厚度

0 12 mm (可根據要求提供其他厚度)

大曝光面積

205 x 205 毫米2/ 410 x 410 毫米2

自動對焦

實時自動對焦系統(光學和氣動)

自動對焦補償范圍

高達 80 μm

流量箱

(閉環)溫控環境試驗箱

對準

用于測量和對準的相機系統和軟件包

其他功能和選項

2D載物臺貼圖和數據、Mura校正、邊緣檢測器、多種數據輸入格式(DXF、CIF、GDSII、Gerber等)、可選的自動掩模處理、可選的Zerodur®載物臺和特殊卡盤



系統尺寸



系統 / 電子機架

寬度 [mm]

2605 / 800

深度 [mm]

1652 / 650

高度 [mm]

2102 / 1800

重量 [kg]

3550 / 180



安裝要求


電氣

400 VAC ± 5 %50/60 Hz16 A, 3

壓縮空氣

6 - 10










有掩膜光刻機

1.手動、半自動、全自動有掩膜光刻機$r$n2.高分辨率掩模對準光刻,

無掩膜/激光直寫光刻機

無掩膜/激光直寫光刻機 參數:1. 光源:375 nm、385 nm、

電子束光刻系統

電子束光刻系統 技術參數:$r$n1.最小線寬≤8nm 光柵周期

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