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深圳市矢量科學儀器有限公司

當前位置:深圳市矢量科學儀器有限公司>>半導體前道工藝設備>>1 光刻設備>> DWL 2000 GS / DWL 4000 GS激光光刻機.

激光光刻機.

參  考  價:面議
具體成交價以合同協議為準

產品型號DWL 2000 GS / DWL 4000 GS

品牌STELLA/海德堡儀器

廠商性質經銷商

所在地國外

更新時間:2024-09-06 10:52:19瀏覽次數:216次

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DWL 2000 GS / DWL 4000 GS 激光光刻系統是快速、靈活的高分辨率圖形發生器。它們針對工業級灰度光刻進行了優化,設計用于集成電路、MEMS、微光學和微流體器件、傳感器、全息圖防偽特征的掩模和晶圓的高通量圖案化。

1. 產品概述

MPO 100是海德堡儀器推出的一款先進多用戶工具,專門為復雜微結構的3D光刻和3D顯微打印而設計。作為一款頂尖的設備,MPO 100采用了先進的雙光子聚合(TPP)技術,這一技術在微光學、光子學、微力學以及生物醫學工程等多個領域的應用中表現出色,推動了這些領域的技術進步和創新。

MPO 100所提供的多功能平臺,使其在精度和生產效率方面達到一定水平。它能夠在單一高效的工藝步驟中,快速而準確地生產出復雜的功能性微結構。這一特性尤其適用于需要精細設計和高可靠性的應用,如高性能光學元件、微流體器件以及生物傳感器等,滿足市場對高精度和高效能的需求。

MPO 100的靈活性使得它可以適應多種材料和設計需求,支持不同用戶的應用。此外,該設備的高吞吐量確保了生產效率,使得科研人員和工程師能夠在短時間內進行多次實驗和迭代,從而加速產品開發和技術驗證。

2. 主要特點

高精度和高吞吐量:以低至 100 nm 的小特征尺寸實現精度。受益于掃描速度超過 1000 mm/s 的高速 3D 打印以及體素調優。

多種材料兼容性:利用 522 nm 的強大飛激光系統高效處理各種聚合物。利用經過行業驗證的ORMOCER®雜化聚合物,具有的光學、機械和化學性能。

免拼接微光學元件:通過無限視場 IFoV) 制造模式,無需拼接即可創建精確的微光學元件。

模塊化3D打印平臺: 3D 光刻和 3D 顯微打印之間無縫切換,具有特定于應用的寫入模式和基板支架。制造高度超過 1 cm 的宏觀結構和表面粗糙度低至 10 nm 的微觀結構。

體素調優功能:在掃描過程中對體素尺寸進行微調,以減少所需的層數。

3. 應用

微光學:無需拼接即可創建高精度微光學元件,確保無縫集成。

光子學:將光子器件直接寫入基板上,從而優化器件性能和集成度。

細觀力學:生產具有高精度和可靠性的復雜微機械結構。

生物醫學工程:制造針對特定應用量身定制的復雜生物醫學設備和支架。

量子器件:開發高精度和定制化的先進量子器件,用于沿研究和應用。

有掩膜光刻機

1.手動、半自動、全自動有掩膜光刻機$r$n2.高分辨率掩模對準光刻,

無掩膜/激光直寫光刻機

無掩膜/激光直寫光刻機 參數:1. 光源:375 nm、385 nm、

電子束光刻系統

電子束光刻系統 技術參數:$r$n1.最小線寬≤8nm 光柵周期

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