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更新時(shí)間：2022-11-30 17:40:48瀏覽次數(shù)：225評(píng)價(jià)

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ICP Etching

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產(chǎn)品簡(jiǎn)介

單晶圓刻蝕技術(shù)的進(jìn)展憑借在蝕刻GaN，SiC和藍(lán)寶石等材料方面的豐富經(jīng)驗(yàn)，我們的技術(shù)既能夠滿足性價(jià)比的要求、又能使器件的性能得到更優(yōu)化。

詳細(xì)介紹

PlasmaPro 100 Polaris專為刻蝕堅(jiān)硬材料（如GaN，藍(lán)寶石和SiC）所需要使用的腐蝕性化學(xué)氣體而設(shè)計(jì)，可在直徑200mm的晶圓上實(shí)現(xiàn)快速均勻刻蝕。

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