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日本ULVAC愛發科半導體熱輥真空熱處理爐
日本ULVAC愛發科半導體熱輥真空熱處理爐
可廣泛用于各種金屬零件的熱處理、釬焊、燒結等真空熱處理。 通過采用熱輥輸送方式并組合各單元室，可以構成適合工藝的多室爐。
通過采用熱輥輸送方式，可以實現具有三個以上室的多室爐。
您可以根據您的工藝，通過組合準備室（真空/大氣交換）、預熱室（通常為 500℃）、加熱室（通常為 1150℃）和冷卻室單元來配置最佳設備。
通過用雙閘閥分隔每個室，可以分離真空/大氣。
通過使用載氣法，可以在蒸發較少的情況下處理金屬。
可以根據計劃生產量添加單位。
可以在線處理加熱 1 → 冷卻 1 → 加熱 2 → 冷卻 2 → 從產品組中移除。
真空熱處理：各種金屬的熱處理、釬焊
燒結處理：磁鐵
| 規格/型號 | 6090 | 6150 | 評論 | ||
| 表現 | |||||
| 尺寸 | 均勻加熱尺寸(mm) | 寬度 | 600 | 600 | |
| 長度 | 900 | 1500 | |||
| 高度 | 600 | 600 | |||
| 最大處理量（kg） | 500 | 800 | 包括托盤重量 | ||
| 溫度 | 最高溫度 | 預熱室 | 600℃ | ||
| 加熱室 | 1200℃ | ||||
| 常用溫度 | 預熱室 | 500℃ | |||
| 加熱室 | 1100℃ | ||||
| 冷卻 | 氣體冷卻 | 標準 | 30分鐘內 | Ar、N2氣體 可選 | |
| 壓力式 | 190kPaG | ||||
| 真空 | 極限壓力 | 標準 | 10 -1帕級 | 空爐脫氣后值 | |
| 高真空型 | 10 -3帕級 | ||||
| 常壓 | 標準(1) | 1Pa~10Pa | (1) 低真空中 (2) 載氣中 | ||
| 標準(2) | 10Pa～100Pa | ||||
| 高真空型 | 10-2帕至10-1帕 | ||||
| 排氣時間 | 準備室 | 10分鐘內 | 空氣爐內氣壓至10Pa以下 | ||
| 預熱室 | 10分鐘內 | ||||
| 冷卻室 | 10分鐘內 | ||||
| 泄漏率 | 準備室 | 4×10 -4以下 | 增壓法 | ||
| 預熱室 | 4×10 -4以下 | ||||
| 加熱室 | 2×10 -4以下 | ||||
| 冷卻室 | 4×10 -4以下 | ||||
| 公用事業 | |||||
3室型 | 電能（千伏安） | 300 | 第480章 | 設備電量 | |
| 冷卻水量(m 3 /hr) | 15 | 18 | 水溫：20-30℃ | ||
| 壓縮空氣量（Nm 3 /min） | 1100 | 1100 | 所需流量 | ||
| 載氣量(L/min) | 80 | 200 | 流量計最大值 | ||
| 冷卻氣體量（m 3 /次） | 9 | 12 | 190kPa加壓冷卻 | ||
| 建筑面積（平方米） | 寬度 | 10 | 12 | ||
| 長度 | 10 | 13 | |||
| 高度 | 5.8 | 5.8 | |||
| 5室型 （預熱×2加熱×2冷卻×1） | 電能（千伏安） | 第425章 | 750 | 設備電量 | |
| 冷卻水量(m 3 /hr) | 二十五 | 30 | 水溫：20-30℃ | ||
| 壓縮空氣量（Nm 3 /min） | 1100 | 1100 | 所需流量 | ||
| 載氣量(L/min) | 160 | 300 | 流量計最大值 | ||
| 冷卻氣體量（m 3 /次） | 9 | 11.7 | 190kPa加壓冷卻 | ||
| 建筑面積（平方米） | 寬度 | 10 | 12 | ||
| 長度 | 12.5 | 17.5 | |||
| 高度 | 5.8 | 5.8 | |||
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