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日本ULVAC愛發科半導體立式真空熱處理爐
日本ULVAC愛發科半導體立式真空熱處理爐
可廣泛用于各種金屬零件的淬火、回火、退火等真空熱處理。提升機構可實現節省空間的兩室結構：加熱室和制備/冷卻室。可以連續記錄產品從加熱到冷卻完成的溫度，以便控制產品質量。
最高溫度為1350℃，可在800至1150℃的常規溫度下使用。
熱均勻性保證在 1150°C ± 5°C 范圍內。
加熱室始終保持真空，從而能夠以良好的再現性進行高質量的熱處理。
當熱電偶安裝在產品上時，可以執行從加熱到冷卻的一系列熱處理，從而實現高質量控制，作為管理產品熱歷史的一種手段。
采用旋轉冷卻機構（選配），非常適合拉刀（刀具）等長而薄的產品的吊掛加工。
調質處理：各種工具鋼、機械零件、飛機零件
釬焊加工：熱交換器、機械零件、飛機零件、真空斷路器
| 模型 | 四十五 | 60 | 90 | 120 | 評論 | ||
| 性能 | |||||||
| 尺寸 | 均勻加熱尺寸[mm] | 直徑 | 450 | 600 | 900 | 1200 | |
| 高度 | 450 | 600 | 900 | 1200 | |||
| 最大處理能力[公斤] | 180 | 320 | 900 | 1200 | 包括托盤重量 | ||
| 溫度 | 最高溫度 | 1350℃ | |||||
| 常用溫度 | 800?1150℃ | ||||||
| 均熱性 | 1150℃±5℃以內（符合AMS等標準） | 在空爐中測量 5 個點 | |||||
| 冷卻 | 氣體冷卻 | 93kPa | 30分鐘內 | 插入標準樣品時從 1150°C 到 150°C | |||
| 190千帕 | 20分鐘內 | ||||||
| 真空 | 到達圧力 | 10 -1 Pa（10 -3 Torr）級（高真空10 -3 Pa（10 -5 Torr）級可選） | 空爐脫氣后的值 | ||||
| 常壓 | 133?13帕斯卡 (1?10 -1托爾) | ||||||
| 排氣時間 | 10分鐘內 | 15分鐘內 | 在空氣爐中從大氣壓到6.5Pa（5×10 -2 Torr） | ||||
| 泄漏量（Pa?m 3 /S） | 3×10 -4 | 4×10 -4 | 5×10 -4 | 由于壓力增加 | |||
| 使用諸元 | |||||||
| 所用電力(kVA) | GH* | 65 | 101 | 209 | 278 | AC 200/ 220V | |
所用冷卻水量 | GH* | 3 | 5 | 9 | 16 | 壓力 250KPa 水溫 30℃以下 | |
| 壓縮空氣量[Nm 3 /min] | 有些 | 700千帕 | |||||
| 載氣量[L/min] | 1.5 | 2.2 | 7.2 | 10 | 氮氣（NTP ） | ||
| 冷卻氣體量[m 3 /次] | 1.8 | 3 | 6 | 10 | 氮氣（NTP ） | ||
| 建筑面積（平方米） | ２室 GH* | 3.4×5.1 | 4×6.3 | 6×9 | 7×10 | Ｗ×Ｌ | |
| 3.5×2.3 | 4×2.6 | 5×3.5 | 6×4 | 高×深 | |||
* 爐型：P=準備室、H=加熱室、G=氣冷室、L=油冷室
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