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一、產品介紹：等離子清洗設備在材料學，光學，電子學，醫藥學，環境學、生物學等科研領域，主要用于材料表面進行清洗、活化、改性等目的
一、產品介紹CIF透射電鏡（TEM）樣品桿清洗機采用遠程離子清洗源設計，清洗快速高效，低轟擊損傷，同時可實現常規等離子清洗
v清洗機可以用于對晶圓表面，背面及晶圓邊緣的清洗，通過創新研發的二流體噴嘴技術可將附著在晶圓表面的細微顆粒污染物去除，實現高效去除
v該系列設備是晶圓CMP后的專用清洗設備，有單工位、轉位式、連線式等不同結構，以適用不同應用場景，其中連線式設備加配全自動上下片系統
v機器電源：100~240VAC,50/60Hz,單相v電機功率：1Hp[750W]v磨盤直徑：8in[203mm],10in[254mm]v磨盤轉速：10~5...
v該化學機械拋光機可用于各類半導體集成電路、氧化物、金屬、STI、SOI等產品的CMP平坦化拋光
v半導體研磨拋光機是一款操作簡單的桌面型單面拋光設備
概述：沉積系統可用于制備光學薄膜、電學薄膜、磁性薄膜、硬質保護薄膜和裝飾薄膜等，工藝性能穩定、模塊化結構，采用行業軟件控制系統；4英寸鍍膜區域內片內膜厚不均勻性...
v分子束外延，是在超高真空系統中把所需要的結晶材料放入到噴射爐中，將噴射爐加熱
vKeysightN1000ADCA-X寬帶寬示波器可以對50Mb/s到224Gb/s的高速數字設計執行精準測量
v兼容200mm以下所有尺寸的晶圓
vM9484CVXG是是德科技款矢量信號發生器，在每個通道上提供2.5GHz調制帶寬，能夠生成高達54GHz的信號
vKeysightM8199A任意波形發生器（AWG）擁有4個128GSa/s采樣率的通道
vAstrella提供更好的數據并降低整體數據成本
v應用領域：Pillar
v應用領域：RCA清洗
v應用范圍：對重摻雜碳化硅（SiC）表面沉積的過渡金屬進行退火
vKeysightN5511A相位噪聲測試系統（PNTS）的量程達到kl（-177dBm/Hz），讓您可以執行物理極限測量
v滿足各種產品、零部件及材料在高溫恒溫環境下貯存、運輸、使用時間適應性試驗要求
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