當前位置:研啟科學儀器(東莞)有限公司>> 槽式濕法刻蝕清洗設備
v 應用領域:RCA清洗,濕法去膠,介質層濕法刻蝕,金屬層濕法刻蝕,爐管前清洗等
v 晶圓尺寸:100mm~300mm
v 設備配置:
? 支持化學液C.C.S.S.、L.C.S.S
? Marangoni dry 或 spin dry
? 自動換酸,自動補液、配液
? 加熱控制,濃度控制,流量控制,壓力控制等
? 槽體過溫保護,各單元配置漏液傳感器
? 支持化學液回收
? 全面支持SECS/GEM通訊協議
v 工藝指標:蝕刻非均勻性片內:≤4%;片間:≤4%;批次間: ≤4%;
v 顆粒控制:增加值<30顆@0.09μm(帶氧化硅膜測試,來料顆粒<50顆)
v 金屬離子:<5E9 atoms/cm2
請輸入賬號
請輸入密碼
請輸驗證碼
以上信息由企業自行提供,信息內容的真實性、準確性和合法性由相關企業負責,化工儀器網對此不承擔任何保證責任。
溫馨提示:為規避購買風險,建議您在購買產品前務必確認供應商資質及產品質量。