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深圳市矢量科學儀器有限公司

當前位置:深圳市矢量科學儀器有限公司>>半導體前道工藝設備>>3 CVD>> Propel HVM GaN金屬有機化學氣相沉積

金屬有機化學氣相沉積

參  考  價:面議
具體成交價以合同協議為準

產品型號Propel HVM GaN

品牌Veeco

廠商性質經銷商

所在地深圳市

更新時間:2024-09-05 15:28:38瀏覽次數:174次

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Propel HVM GaN MOCVD 系統,用于電源、5G 射頻和光子學,單晶圓反應器技術為電源、5G 射頻和光子學應用提供高效、高質量的氮化鎵基器件

1.產品概述:

Veeco的Propel™HVMGaNMOCVD系統被設計為一種大批量制造單晶圓反應器簇系統,適用于基于GaN的功率、射頻和光子器件。采用單晶圓反應器平臺,能夠在150和200毫米晶圓上產生高質量外延膜性能,以實現均勻性、可重復性和良率。PropelHVM系統可配置多達6個模塊化集群室,以實現最大的生產力和靈活性,是客戶、鑄造廠或IDM業務的理想選擇。

2.產品優勢

單晶圓反應器基于VeecoTurboDisc®設計,采用突破性技術,包括IsoFlange™和SymmHeat™,可在整個晶圓上提供層流和均勻的溫度分布。客戶可以輕松地將工藝從Veeco的單晶圓反應器Propel和K465i™系統轉移到PropelHVMGaNMOCVD平臺,以實現快速開發到生產周期.

Veeco的Propel™HVMGaNMOCVD系統被設計為一種大批量制造單晶圓反應器簇系統,適用于基于GaN的功率、射頻和光子器件。采用單晶圓反應器平臺,能夠在150和200毫米晶圓上產生高質量外延膜性能,以實現均勻性、可重復性和良率。PropelHVM系統可配置多達6個模塊化集群室,以實現大的生產力和靈活性,是客戶、鑄造廠或IDM業務的理想選擇。

單晶圓反應器基于VeecoTurboDisc®設計,采用突破性技術,包括IsoFlange™和SymmHeat™,可在整個晶圓上提供層流和均勻的溫度分布。客戶可以輕松地將工藝從Veeco的單晶圓反應器Propel和K465i™系統轉移到PropelHVMGaNMOCVD平臺,以實現快速開發到生產周期



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