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深圳市矢量科學儀器有限公司

勻膠機

參  考  價:面議
具體成交價以合同協議為準

產品型號MSC/SC1/2

品牌CIF

廠商性質經銷商

所在地深圳市

更新時間:2024-09-02 17:12:57瀏覽次數:876次

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CIF勻膠機轉速穩定、啟動迅速,旋涂均勻,操作簡單,結構緊湊實用,為實驗室提供了理想的解決方案。廣泛應用于微電子、半導體、新能源、化工材料、生物材料、光學,硅片、載玻片,晶片,基片,ITO 導電玻璃等工藝制版表面涂覆等。

一、產品介紹

CIF勻膠機轉速穩定、啟動迅速,旋涂均勻,操作簡單,結構緊湊實用,為實驗室提供了理想的解決方案。廣泛應用于微電子、半導體、新能源、化工材料、生物材料、光學,硅片、載玻片,晶片,基片,ITO 導電玻璃等工藝制版表面涂覆等。

二、CIF勻膠機 產品特點

1. 采用閉環控制伺服電機,數字式增速信號反饋,速勻準確,壽命長,保證勻膠均勻。

2. 5寸全彩觸摸屏,智能程序化可編程操控顯示,標配10個勻膠梯度階段(速度和時間梯度設置),可選配10個可編程程序,每個程序下可設置10個勻膠梯度階段,最多100個階段。

3. 內置水平校準裝置,最大限度的保證旋涂均勻,可對大小不同規格的基片進行旋涂。

4. 多重安全保護

(1) 電磁安全開關,蓋子打開卡盤停止,保證安全;

(2) 蓋子自鎖功能,防止飛片蓋子崩開傷人;

(3) 雙重安全上蓋,聚四氟嵌鑲鋼化玻璃,避免單一玻璃或者亞克力上蓋飛片傷人,最大限度保證實驗人員安全。

5. 樣品托盤卡口和樣品托盤之間三重密封安全保護,有效降低電機進膠的風險。

6. 一機兩用,根據不同樣品可選真空吸盤和非真空卡盤兩種旋涂方式。

7. 符合人體功能學的水平取放樣品旋涂托盤設計,取放樣品更方便。

8. 不銹鋼噴塑涂層旋涂殼體,旋涂腔體采用PTFE材料。旋涂托盤采用聚丙烯(NPP-H)材料,耐酸堿防腐蝕,保證儀器在苛刻條件下仍能正常運行。

9. 上下雙腔體設計,較大的上腔體便于擦拭去除膠液,錐形下腔體結構設計便于收集膠液,并帶廢膠收集裝置。

10. 可選氮氣吹干、氮氣保護,自動滴膠或簡易滴膠裝置,提供更多的操作便利性。

11. 適用硅片、玻璃、石英、金屬、GaAs,GaN,InP 等多種材料。

三、技術參數

型號

轉速(轉/分)

轉速穩定度

勻膠時間

旋涂基片尺寸mm

外型尺寸(LxWxH)mm

SC1

50-10000

±1%

0-2000S

圓片Φ5-100,方片最大100x100

335x256x210

SC2

50-10000

±1%

0-2000S

圓片Φ5-150,方片最大150x150

375x295x220




有掩膜光刻機

1.手動、半自動、全自動有掩膜光刻機$r$n2.高分辨率掩模對準光刻,

無掩膜/激光直寫光刻機

無掩膜/激光直寫光刻機 參數:1. 光源:375 nm、385 nm、

電子束光刻系統

電子束光刻系統 技術參數:$r$n1.最小線寬≤8nm 光柵周期

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