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AES-4535W-芯片快速高低溫系統的日常維護知識
  • AES-4535W-芯片快速高低溫系統的日常維護知識
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貨物所在地：江蘇無錫市

所在地： 江蘇省無錫市新吳區機光電工業園鴻運路203號

更新時間：2024-12-07 21:00:08

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無錫冠亞射流式高低溫沖擊測試機給芯片、模塊、集成電路板、電子元器件等提供快速的環境溫度。是對產品電性能測試、失效分析、可靠性評估*的儀器設備。廣泛應用于半導體企業、航空航天、光通訊、高校、研究所等領域。芯片快速高低溫系統的日常維護知識

<strong><strong><strong><strong><strong><strong><strong><strong><strong><strong><strong><strong><strong><strong>IC芯片溫度沖擊測試機清潔保養</strong></strong></strong></strong></strong></strong></strong></strong></strong></strong></strong></strong></strong></strong>

無錫冠亞射流式高低溫沖擊測試機

給芯片、模塊、集成電路板、電子元器件等提供快速的環境溫度。

是對產品電性能測試、失效分析、可靠性評估*的儀器設備。

廣泛應用于半導體企業、航空航天、光通訊、高校、研究所等領域。  

<strong><strong><strong><strong><strong><strong><strong><strong><strong><strong><strong>IC芯片溫度沖擊測試機清潔保養</strong></strong></strong></strong></strong></strong></strong></strong></strong></strong></strong><strong><strong><strong><strong><strong><strong><strong><strong><strong><strong><strong>IC芯片溫度沖擊測試機清潔保養</strong></strong></strong></strong></strong></strong></strong></strong></strong></strong></strong><strong><strong><strong><strong><strong><strong><strong><strong><strong><strong><strong>IC芯片溫度沖擊測試機清潔保養</strong></strong></strong></strong></strong></strong></strong></strong></strong></strong></strong><strong><strong><strong><strong><strong><strong><strong><strong><strong><strong><strong>IC芯片溫度沖擊測試機清潔保養</strong></strong></strong></strong></strong></strong></strong></strong></strong></strong></strong> 


芯片快速高低溫系統的日常維護知識

芯片快速高低溫系統的日常維護知識

　　芯片快速高低溫系統一般建議您將其置于溫度為8℃~28℃,對不具備此條件的實驗室,須配備適當的空調器。堅持專人專業管理維護，有條件的單位應不定期派專人到供方工廠培訓學習，以獲得較專業的維護、維修的經驗和能力。固定每3個月清洗一次冷凝器，對于壓縮機采用風冷冷卻的，應定期檢修冷凝風機并對冷凝器進行去污除塵以保證其良好的通風換熱性能。對于壓縮機采用水冷冷卻的，除須保證其進水壓力與進水溫度外，還須保證相應流量，并定期對冷凝器內部進行清洗除垢以獲取其持續的換熱性能。

　　定期清洗蒸發器：因試品的潔凈等級各異，在強制風循環作用下蒸發器上會凝聚很多塵埃等小顆粒物體，應定期進行清洗。循環風葉、冷凝器風機清潔和平衡與清洗蒸發器相似，因試驗箱的工作環境各異，循環風葉和冷凝器風機上會凝聚很多塵埃等小顆粒物體，應定期進行清洗。水路與加濕器清洗：若水路不暢、加濕器結垢易導致加濕器干燒，可能損壞加濕器，所以須定期對水路與加濕器進行清洗。

　　堅持每次試驗完畢后將溫度設定在環境溫度附近，工作30分鐘左右后再切斷電源,并擦干凈工作室內壁。長期停機不使用時應定期每半月給產品通電，通電時間不小于1小時。

由于芯片快速高低溫系統基本由電氣、制冷和機械多個系統組成，因此一旦設備出現問題，應面面地對整個設備系統進行檢查和綜合分析。一般來說分析判斷的過程可以先外后里，即首先排除外部因素后，根據故障現象對設備進行先系統分解。

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