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膜厚量測儀

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  • 膜厚量測儀
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參考價 面議
具體成交價以合同協議為準
  • 型號 FE-300
  • 品牌 OTSUKA/日本大冢
  • 廠商性質 生產商
  • 所在地 蘇州市
在線詢價 收藏產品

更新時間:2020-08-06 11:26:50瀏覽次數:1283

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產品簡介

產地類別 進口 應用領域 醫療衛生,食品,電子,汽車,綜合
產品信息
特 長
薄膜到厚膜的測量范圍、UV~NIR光譜分析
高性能的低價光學薄膜量測儀
藉由反射率光譜分析膜厚
完整繼承FE-3000機種90%的強大功能
無復雜設定,操作簡單,短時間內即可上手
線性小平方法解析光學常數(n:折射率、k:消光系數)
測量項目
? 反射率測量
?膜厚解析(10層)
?光學常數解析(n:折射率、k:消光系數)

詳細介紹

產品信息

特 長

薄膜到厚膜的測量范圍、UV~NIR光譜分析

高性能的低價光學薄膜量測儀

藉由反射率光譜分析膜厚

完整繼承FE-3000機種90%的強大功能

無復雜設定,操作簡單,短時間內即可上手

線性小平方法解析光學常數(n:折射率、k:消光系數)

測量項目

  • 反射率測量

  • 膜厚解析(10層)

  • 光學常數解析(n:折射率、k:消光系數)

產品規格

樣品尺寸

大8寸晶圓(厚度5mm)

測量時間

0.1s ~ 10s以內

量測口徑

約φ3mm

通訊界面

USB

尺寸重量

280(W)× 570(D)×350(H)mm,約24kg

軟體功能

標準功能

波峰波谷解析、FFT解析、適化法解析、小二乘法解析

選配功能

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

※1 請于本公公司聯系聯系我們
※2 對比VLSI標準樣品(100nm SiO2/Si),范圍值同保證書所記載
※3 測量VLSI標準樣品(100nm SiO2/Si)同一點位時之重復再現性。(擴充系數2.1)

應用范圍

半導體晶圓膜(光阻、SOI、SiO2等)
光學薄膜(OC膜、AR膜、ITO、IZO膜等)

測量范例

  • PET基板上的DLC膜

    item_0005FE-300_sub001.gif

  • item_0005FE-300_sub002.gif

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