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當前位置：江蘇雷博科學儀器有限公司>>鍍膜設備>> 鈣鈦礦鍍膜設備
| 產地類別 | 國產 | 價格區間 | 5萬-10萬 |
|---|---|---|---|
| 應用領域 | 化工,生物產業,能源,電氣,綜合 |
| 功能特點 |
|---|
| 技術參數 | |
|---|---|
| 鍍膜室 | 不銹鋼材料，采用方形前后開門結構，內帶有防污板，腔室尺寸約為600mm×450mm×450mm |
| 真空排氣系統 | 采用分子泵+機械泵系統 |
| 真空度 | 鍍膜室極限真空≤6×10-4Pa |
| 系統漏率 | ≤1×10-7Pa |
| 蒸發源 | 安裝在真空室的下底上；有機蒸發源4個、容積5ml，2臺蒸發電源，可測溫、控溫，加熱溫度400℃，功率0.5KW；無機蒸發源4套、容積5ml，2臺蒸發電源，加熱電流300A，功率3.2KW；蒸發源擋板采用自動磁力控制方式控制其開啟 |
| 樣品架 | 安裝在真空室的上蓋上，可放置Ø120mm的樣品、載玻片，旋轉速度0-30rpm |
| 加熱溫度 | RT-180℃，測溫、控溫 |
| 膜厚控制儀 | 石英晶振膜厚控制儀，膜厚測量范圍0-999999Å |
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