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產地類別 | 進口 | 應用領域 | 電子,綜合 |
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RUDOLPH S3000A 橢圓偏光儀
Rudolph S3000A 橢圓偏光儀概述
先進的光譜橢圓儀
高性能,精確度高
多通道雙波長光譜橢圓儀
波長范圍廣(118-8000nm)
材料范圍廣泛(有機和無機半導體、薄膜等)
可測量薄膜厚度和光學性能
重復性和可靠性
自校準光機、光纖激光二極管源和高分辨率彩色CCD檢測器
基于Windows操作系統,先進流程控制軟件
自動化測量薄膜的厚度、光學常數、應力和折射率
半導體行業生產用透明度計量工具
晶圓測試和計量設備,適用于半導體和高級封裝生產線
無損光學成像技術
X射線探測技術,測量粒子/缺陷密度、尺寸和材料特性
晶圓尺寸為12英寸
設計用于300mm fab范圍內的應用
RUDOLPH S3000A是一款高性能的橢圓偏光儀,廣泛應用于薄膜和表面的無損測量。該設備具有以下主要特點:
高精度與高重復性:RUDOLPH S3000A能夠提供精確、可靠的測量結果,適用于科學和工業應用。
多通道雙波長設計:它是一種先進的多通道、雙波長光譜橢圓偏光儀,可以同時對多達四個樣品進行測量,確保了結果的可重復性和可靠性。
寬波長范圍:該設備支持從118到8000納米的廣泛波長范圍,能夠測量有機和無機半導體、薄膜、光學層和基板等多種材料。
溫度控制與數據收集:配備溫度控制系統和數據收集功能,使得用戶可以方便地進行旋轉分析和數據分析。
自校準光機與高分辨率檢測器:配備自校準光機和高分辨率彩色CCD檢測器,確保了測量的準確性和長期穩定性。
用戶友好的軟件工具:基于Windows的操作系統和先進的流程控制軟件,使操作更加簡便,并且便于定制和分析。
晶片尺寸兼容性:可以測量最大150毫米的晶片,樣本厚度范圍為1毫米至4毫米,還可以通過選配模塊提升性能。
應用領域:該設備不僅適用于薄膜厚度和光學常數的測量,還能夠測量應力和折射率等物理特性,適用于各種科學和工業應用。
總之,RUDOLPH S3000A是一款功能強大且用途廣泛的橢圓偏光儀,適合需要高精度和高重復性的科學研究和工業生產環境。