目錄:深圳市達瑞博電子有限公司>>光學儀器及設(shè)備>>薄膜厚度測試儀>> MP-200薄膜厚度測試儀
產(chǎn)地類別 | 進口 | 應(yīng)用領(lǐng)域 | 電子,綜合 |
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型號: MP-200
制造商: Rudolph
無接觸金屬厚度測量
高靈敏度光學剖面儀
自動散射儀
過程控制系統(tǒng)
晶圓大小: 8"
工作電流: 75 mA for 24 V models; 8 mA for 230 V models
推力: 200 N
冷卻水需求: 最小流量0.79 GPM (3.00 l/m)
最di溫度: 12 C
晶圓測試和計量系統(tǒng)
非銅/雙延遲階段,配備5" Chuck
支持6/8英寸 Chuck
RUDOLPH MP 200薄膜厚度測試儀是一種專業(yè)級晶圓測試和計量系統(tǒng),旨在成為任何半導體制造設(shè)施的重要組成部分。它旨在提供準確性和可追蹤性,是專門為方便晶片測試小螺距和高縱橫比特征而開發(fā)的。該系統(tǒng)采用業(yè)界領(lǐng)xian的高靈敏度光學剖面儀,使用白光干涉法掃描晶圓表面。這可以測量特征的形狀和輪廓,以及它們的相對位置和大小。它也被用于在微觀水平上檢查機械和表面的均勻性。然后將傳感器的輸出發(fā)送到功能強大且用途廣泛的軟件包中,該軟件包包含幾種高級算法,可自動識別和測量小至1納米的特征。MP 200還包括一個革命性的"獨立"散射計,旨在檢測晶圓表面的自動圖形圖像并測量其大小和形狀。此工具可用于對晶片表面執(zhí)行更詳細的檢查,尤其有助于檢查諸如較小面積設(shè)備或高分辨率模式等特征。最后,RUDOLPH MP 200還有一個多傳感器、全自動的過程控制系統(tǒng),旨在精確監(jiān)控和控制所有可以影響晶圓質(zhì)量的過程。這包括加工過程中的溫度、壓力、光子和電子束曝光。總體而言,MP 200是任何半導體制造設(shè)施的寶貴工具,在測試和測量晶片時提供了準確性和可追蹤性。它在檢查圖形圖像、檢測小到1納米的特征以及在處理過程中精確監(jiān)控過程等方面具有高度的通用性。RUDOLPH MP 200具有多種傳感器和強大但用戶友好的軟件包,是晶圓測試和計量的可靠有效的解決方案。