超高分辨率電子束光刻EBL
 

系列采用專業的恒溫控制系統，使得整個主系統的溫度保持恒定，再加上主系統內部精密傳感裝置，使得電子束電流穩定性，電子束定位穩定性，電子束電流分布均一性都得到了的提高，其性能指標遠遠高于其它廠家的同類產品，在長達 5 小時的時間內，電子束電流和電子束定位非常穩定，電子束電流分布也非常均一。

納米光刻技術在微納電子器件制作中起著關鍵作用,而電子束光刻在納米光刻技術制作中是好的方法之一。司為21世紀先進納米科技提供 的電子束納米光刻（EBL）系統，或稱電子束直寫（EBD）、電子束爆光系統。 

超高分辨率的電子束光刻系列的型號包括：
 

技術參數：
加速電壓：高130keV
單段加速能力達到130keV，盡量減少電子槍的長度
超短電子槍長度，無微放電
電子束直徑＜1.6nm
小線寬＜7nm
雙熱控制，實現超穩定直寫能力