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當前位置：北京亞科晨旭科技有限公司>>微納加工平臺-圖形發生>>電子束曝光>> CRESTEC超高分辨率電子束光刻EBL（CABL-UH series）
Electron Beam Lithography System（EB
| 產地類別 | 進口 | 價格區間 | 150萬-200萬 |
|---|---|---|---|
| 應用領域 | 電子 |
超高分辨率電子束光刻EBL
Ultrahigh Resolution EB Lithography (CABL-UH series)
納米光刻技術在微納電子器件制作中起著關鍵作用,而電子束光刻在納米光刻技術制作中是好的方法之一。日本CRESTEC公司為21世紀先進納米科技提供 的電子束納米光刻（EBL）系統，或稱電子束直寫（EBD）、電子束爆光系統。
超高分辨率的電子束光刻CABL-UH系列的型號包括：
CABL-UH90 (90keV) 、CABL-UH110 (110keV) 、CABL-UH130 (130keV)
技術參數：
加速電壓：高130keV
單段加速能力達到130keV，盡量減少電子槍的長度
超短電子槍長度，無微放電
電子束直徑＜1.6nm
小線寬＜7nm
雙熱控制，實現超穩定直寫能力
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