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美國OKI/METCAL電烙鐵MX-500/MX-5200/MX-5000手柄線MX-RM3E

METCAL電烙鐵DFP-CN4/DCP-CN4/DFP-CN5/DCP-CN5/DFP-CN6詳細介紹

高性能電子束曝光機是一款高性能的納米光刻系統，擁有完整200mm尺寸的光刻能力，這款電子束光刻系統代表了不斷進化的高度成功和廣為市場接受的EBPG系列產品。

EBPG5150使用了155mm大小的樣品臺，采用跟電子束曝光機EBPG5200一樣的通用光刻平臺設計，

PIONEER Two將專業電子束曝光設備和電子成像系統所有的先進性能，融合成一套獨立的成套系統。多功能性、穩定性、用戶友好性操作，使PIONEER Two系統...

探索超越電子束曝光功能的納米工程系統超高分辨電子束曝光、成像及納米工程系統納米加工領域的瑞士

納米光刻技術在微納電子器件制作中起著關鍵作用,而電子束光刻在納米光刻技術制作中是的方法之一。先進納米科技提供;的電子束納米光刻（EBL）系統，或稱電子束直寫（E...

納米光刻技術在微納電子器件制作中起著關鍵作用,而電子束光刻在納米光刻技術制作中是的方法之一。日本CRESTEC公司為21世紀先進納米科技提供的電子束納米光刻（E...

電子束光刻系統特點1.采用高亮度和高穩定性的TFE電子槍2.出色的電子束偏轉控制技術3.采用場尺寸調制技術，電子束定位分辨率（address size）可達0....

ContourGT-K 3D光學顯微鏡是表面輪廓儀功能和價值的標準。該系統具有各種2D / 3D測量，高分辨率成像和用戶友好的界面，該系統以緊湊的封裝和緊湊的占...

ContourX-500光學輪廓儀是用于快速，非接觸式3D表面度量的世界上全面的自動化臺式系統。該系統集成了布魯克專有的傾斜/傾斜光學頭，可以*編程，以在一定角...

ContourX-200光學輪廓儀將其特性，可自定義的選項以及易用性完美融合，可提供yi 流的快速，準確和可重復的非接觸式3D表面度量。

ContourX-100光學輪廓儀以佳的價格為準確和可重復的非接觸式表面計量樹立了新的*。小尺寸系統采用流線型封裝，可提供的2D / 3D高分辨率測量功能，

布魯克作為三維表面測量與觀察業界的ling dao者，提供從微觀如MEMS（微機電系統）到宏觀如發動機腔體等不同大小樣品的快說非接觸式分析。

納米光刻技術在微納電子器件制作中起著關鍵作用,而電子束光刻在納米光刻技術制作的方法之一。

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EVG®850LT SOI和直接晶圓鍵合的自動化生產鍵合系統，自動化生產鍵合系統，適用于多種融合/分子晶圓鍵合應用

850 SOI的自動化生產鍵合系統適用于多種融合/分子晶圓鍵合應用。SOI晶片是微電子行業有望生產出更快，性能更高的微電子設備的有希望的新基礎材料。晶圓鍵合技術...

810LT LowTemp™等離子激活系統；適用于SOI，MEMS，化合物半導體和先進基板鍵合的低溫等離子體活化系統