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詳細摘要： 此款JYSC-1000型噴金儀主要用于SEM制樣樣品鍍導電膜（如金膜）或材料鍍膜，儀器性能穩定，操作簡單方便。采用磁控冷態濺射，基本不升溫，最大限度保護樣品。

詳細摘要： 此款小型離子濺射鍍膜儀主要用于掃描電子顯微鏡樣品鍍覆導電膜（金膜），儀器操作簡單方便，是配合SEM 制樣*的儀器。設備配有微量充氣閥調節工作真空，在 20Pa 真空保護。同時，配有進氣口和微量充氣調節裝置，以方便空氣或氬氣等工作氣體充入。

詳細摘要： 高純度的金屬濺射靶材適用于多種品牌的離子濺射儀： 包括PELCO®,Agar, Bal-Tec, Bio-Rad, Denton, Edwards, Emitech, Emscope, Gatan, ISI, JEOL, LEICA, Polaron, Quorum, and SPI.?這些磁控濺射靶材的直徑分為60,57,54,50和19mm。

詳細摘要： 產品編號描述包裝16071 鋁導電膠帶, 6.3mm寬x 16.4m 長 卷16071-1 , 12.7mm寬x 16.4m 長 卷16071-2 , 25.4mm寬x 16.4m 長 卷

詳細摘要： PELCO®FlipScribe®劃片機是一個緊湊、穩定、準確、快速和低成本的劃線和裂解解決方案，適用于任何實驗室。

詳細摘要： PELCO LatticeAx120晶圓裂片機（以前來自LatticeGear™）包括一個裂片切割機，對樣品表面的壓痕作用進行精細的、可調節的控制，然后是一個精準控制的3點裂片步驟，用于生產高質量的裂解樣品截面。

詳細摘要： 日立電鏡預對中鎢燈絲，Hitachi原廠燈絲，一盒十只，含底座。適用于S-3000、 S-3100、S-3400、S-3400N、S-3500 、S-3600、S-3700N、SU-1500、SU1510、SU3500、TM-1000、TM3000、 TM3030、TM3030plus等機型。

詳細摘要： PELCO®LatticeAx420晶圓劃片裂片切割機是PELCO® LatticeAx®晶圓劃片裂片切割系列中的頂配，是一款用于實驗室晶圓精密劃片裂片的切割機。

詳細摘要： 一款適用于實驗室的精密劃片裂片切割機

詳細摘要： 單顆粒結構分析優選。ANTcryo支持膜冷凍電鏡專用微孔陣列膜的主要優點1.提升單顆粒結構解析的分辨率2.提高制樣成功率3.縮短數據收集時間

詳細摘要： PELCO Tripod Polisher 590由IBM East Fishkill實驗室的研究人員設計，以準確地制備預先的微米尺度區域的透射電鏡和掃描電鏡樣品。對于TEM樣品，該技術已成功地用于將離子研磨時間限制在15分鐘以內，并且在某些情況下，消除了離子研磨的需要。

詳細摘要： Sanyu 離子濺射儀SC-701MKll是一款結構緊湊的桌上型鍍膜系統，特別適用于電極鍍膜，也可用于掃描電鏡成像中非導電樣品鍍膜。

詳細摘要： Ted Pella v1級方形云母片高級的云母片最高質量 V1 級0.15 至 0.177 毫米 (0.006 - 0.007“) 厚

詳細摘要： Ted Pella低溫記號筆防水耐酒精一般用途：通用實驗室記號筆、低溫書寫表面： 塑料、玻璃、紙和布標簽、實驗室膠帶、低溫膠帶、低溫標簽耐：酒精和水

詳細摘要： Ted Pella銀導電膠替換16045。低VOC，抗老化能力強，極薄的固化薄膜即可產生強導電能力，是于SEM樣品制備的理想用品。

詳細摘要： Ted Pella PELCO導電鎳膠/鎳導電膠帶有丙烯酸粘合劑的導電鎳膠。高純度鎳片（8-13μm），快干，VOC含量27.5％。快干鎳膠能在大多數基材上形成具有良好附著力的薄而導電的柔性層。

詳細摘要： Ted PellaH70E導熱環氧樹脂EPO-TEKH70E是一種雙組份，導熱，電絕緣的環氧樹脂設計用于微電子和光電子應用芯片接合。這是一種散熱膠，推薦用于需要良好散熱的散熱應用。EPO-TEK H70E在室溫下能長期表現出優良的機械特性。對黑色金屬和有色金屬，玻璃，陶瓷，可伐合金和PCB有優異的附著力。

詳細摘要： Ted Pella PELCO高性能導電鎳膏/鎳膠在無機硅酸鹽水溶液中的鎳粒，提供用于粘接樣品的導電粘合劑，可在以下特殊要求中應用：高溫可達538°C超高真空-無碳氫化合物，無揮發性有機化合物低溫應用（適用性取決于匹配性能）

詳細摘要： Ted Pella雙面碳導電膠片（鋁基底）鋁基底光滑的表面優于以往的的無紡布基底的雙面碳導電膠片，用于小纖維和粉末的SEM和EDS分析。非常適合自動粒子分析，溫度范圍-20°C至+ 60°C。

詳細摘要： Ted Pella Spectro 光譜雙面碳導電膠片結構和厚度與上述PELCO Tabs™碳導電片相似。EDX分析顯示，該導電膠片的粘合劑中可能只存在少量的Al、Si雜質和一些局部的硫磺顆粒。