此款小型離子濺射鍍膜儀主要用于掃描電子顯微鏡樣品鍍覆導電膜（金膜），儀器操作簡單方便，是配合SEM 制樣*的儀器。設備配有微量充氣閥調節工作真空，在 20Pa 真空保護。同時，配有進氣口和微量充氣調節裝置，以方便空氣或氬氣等工作氣體充入。

此款小型離子濺射鍍膜儀主要用于掃描電子顯微鏡樣品鍍覆導電膜（金膜），儀器操作簡單方便，是配合SEM 制樣*的儀器。設備配有微量充氣閥調節工作真空，在 20Pa 真空保護。同時，配有進氣口和微量充氣調節裝置，以方便空氣或氬氣等工作氣體充入。

鍍膜儀主要特點：

• 顯示操作面為60°斜面，充分考慮操作的便捷和視覺體驗，方便觀察操作；

• 真空泵連接管路為金屬波紋管，美觀耐用；

• 微調閥調節靈敏準確，帶有刻度標識；

• 真空泵抽速快，噪音低，適合實驗室使用；

• 控制電路為控制板，工作穩定可靠；

• 顯示控制操作部分布局合理，位于同側，使用方便；

• 結構簡單可靠，布局合理，維修操作空間大；

技術參數：

1. 玻璃處理室：Φ108mm,高度135mm;

2. 試樣臺尺寸：Φ40mm,可同時放6個樣品杯；

3. 金靶尺寸：Φ57mm;

4. 真空系統：靜音直聯旋片真空泵2L/S；

5. 真空檢測：定制皮氏計，配合真空指針表，靈敏可靠；

6. 真空保護：20pa配有微量充氣閥調節工作真空；

7. 工作室工作媒介氣體：空氣或氬氣，配有氬氣進氣口和微量充氣節。