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（中國(guó)科學(xué)院光電技術(shù)研究所, 成都雙流350信箱, 610209）
摘 要 分析了制作高功率連續(xù)激光反射鏡材料的熱性能、缺陷及其加工工藝, 提出了制作高功率激光反射鏡應(yīng)考慮的幾個(gè)關(guān)鍵問題: 反射鏡材料的綜合熱性能比值S , 材料的微觀結(jié)構(gòu)、缺陷的大小和晶向的選擇, 以及加工工藝的設(shè)計(jì)。并介紹了實(shí)驗(yàn)結(jié)果。
中圖分類號(hào) TN 244
高功率連續(xù)
激光反射鏡（以下簡(jiǎn)稱
反射鏡） 是高能連續(xù)激光系統(tǒng)中的主要光學(xué)元件, 其質(zhì)量的好壞, 直接影響著高能激光系統(tǒng)的性能。過(guò)去, 人們只注意研究如何提高
反射鏡的反射率, 單純依靠表面鍍膜層的好壞來(lái)衡量反射鏡的好壞。隨著高能連續(xù)激光技術(shù)的飛速發(fā)展,激光系統(tǒng)中的反射鏡承受著越來(lái)越高的功率密度, 傳統(tǒng)的材料和表面質(zhì)量標(biāo)準(zhǔn)已不能*適應(yīng)于高能連續(xù)激光系統(tǒng)的需要。在現(xiàn)在以及今后的高能連續(xù)激光系統(tǒng)中, 制約著
反射鏡性能的因素已不單是反射率, 它還包括制作反射鏡材料的熱性能、微觀結(jié)構(gòu)、缺陷、晶向以及加工工藝等。而這些因素, 不僅在過(guò)去, 就是現(xiàn)在也往往被我們的設(shè)計(jì)者及加工者所忽視。因此,本文將重點(diǎn)分析這些因素對(duì)反射鏡的影響。
1. 1 材料的熱性能
反射鏡在傳輸高能激光束時(shí)將吸收一定的能量, 這部分能量轉(zhuǎn)化為熱能, 由于
反射鏡材料的熱膨脹、局部熱應(yīng)力以及反射鏡固定時(shí)的機(jī)械應(yīng)力等原因, 從而使鏡面產(chǎn)生形變, 影響光束的傳輸質(zhì)量, 嚴(yán)重的甚至使反射鏡炸裂, 使系統(tǒng)不能有效地進(jìn)行工作。鑒于此, 高能激光系統(tǒng)中使用的反射鏡, 要求其工作時(shí)表面形變應(yīng)在許可的范圍以內(nèi)。機(jī)械應(yīng)力產(chǎn)生的形變可以通過(guò)反射鏡固定方式優(yōu)化處理, 從而將其控制在允許范圍以內(nèi); 局部熱應(yīng)力產(chǎn)生的形變遠(yuǎn)遠(yuǎn)小于熱膨脹的形變, 故可忽略不計(jì)[ 1 ]。這里我們僅考慮
反射鏡材料的熱膨脹產(chǎn)生的形變。當(dāng)激光均勻或集中輻射到
反射鏡表面時(shí), 根據(jù)熱傳導(dǎo)的數(shù)學(xué)理論可知, 固體中某個(gè)表面的熱流通量與局域溫度的梯度成正比, 即:
（1）
式中K為材料的熱導(dǎo)率, φZO為通過(guò)固體表面的熱流通量。
（2）
反射鏡熱膨脹產(chǎn)生的形變正比于溫度和熱膨脹系數(shù), 即:
（3）
式中dx 為
反射鏡表面的局域形變,
為反射鏡材料的熱膨脹系數(shù), dT 為反射鏡表面的局域溫度。
將（2） 式代入（3） 式可得
（4）
式中
為反射鏡材料的綜合熱性能比值.
由（4） 式知, 反射鏡表面的熱形變與其材料的綜合熱性能比值S 成正比, 在吸收熱能及反射鏡尺寸相同的前提下, 反射鏡表面熱形變的大小要由材料的綜合熱性能來(lái)確定, S 值越小,反射鏡表面的熱形變就越小。表1列出了國(guó)內(nèi)現(xiàn)有的幾種材料的有關(guān)熱性能參數(shù)[ 2, 3 ]。
通過(guò)表1中的參數(shù)對(duì)比我們發(fā)現(xiàn), 硅、鉬和銅等材料的綜合熱性能比值S 較小, 而K9玻璃、派勒克斯（Pyrex） 和石英玻璃的S 比值就比它們大得多。根據(jù)（4） 式, 在吸收相同熱流通量的條件下, 用表1中所列的前三種材料作
反射鏡, 其表面熱形變將比用硅、鉬和銅等材料作反射鏡大一、二個(gè)數(shù)量級(jí)。有鑒于此, 在僅考慮反射鏡表面熱形變的情況下, 用硅、鉬和銅等材料作
反射鏡是比較理想的。在激光束的功率密度較低時(shí), 也可選用石英玻璃, 但用K9、派勒克斯玻璃或與其參數(shù)相近的材料作反射鏡則是不現(xiàn)實(shí)的。圖1所示的就是K9玻璃
反射鏡被強(qiáng)激光束打裂的情形。
1. 2 材料的結(jié)構(gòu)、缺陷及晶向
通過(guò)上述材料的熱性能分析可知, 在國(guó)內(nèi)現(xiàn)有的材料中, 單晶硅是制作
反射鏡的材料。過(guò)去, 人們?cè)谠O(shè)計(jì)和加工反射鏡時(shí), 往往不考慮或是不*考慮制作反射鏡的材料本身的一些因素, 如微觀結(jié)構(gòu)、缺陷及晶向等。對(duì)于高功率激光反射鏡來(lái)說(shuō), 由于反射鏡表面的超光滑（表面粗糙度小于1nmRM S[ 4 ] ） 要求, 這些因素將嚴(yán)重制約著
反射鏡表面粗糙度的降低。
單晶硅的晶格常數(shù)是a= 0. 543nm , 對(duì)于（111） 晶面而言, 其晶面間距
01235nm , 其晶向的平均原子距離
硅原子的半徑r= 0. 134nm [ 6 ] , 兩相鄰原子間的平均縫隙為l- 2r= 0. 202nm , 其深度是2r+ d = 0. 503nm。兩相鄰原子間的平均縫隙的深度就是用單晶硅制作反射鏡時(shí), 其表面粗糙度的理論極限值（R t）。根據(jù)經(jīng)驗(yàn), 表面粗糙度的均方值一般在峰谷值的四分之一至七分之一之間, 由此可知, 用單晶硅作
反射鏡時(shí),其表面粗糙度的理論極限值將大于或等于0.126～ 0. 072nmRM S。如此小的粗糙度已*反射鏡的要求, 所以, 單晶硅是適合作反射鏡的*材料之一。
單晶硅的缺陷一般分點(diǎn)缺陷、線缺陷和面缺陷。單晶硅的這些缺陷在加工時(shí)將造成被加工表面各局部區(qū)域去除量的不一致, 有缺陷的區(qū)域去除量要多一些, 沒有缺陷的區(qū)域去除量要少一些。加工結(jié)束后, 在被加工表面有缺陷的區(qū)域就出現(xiàn)一些小坑, 特別是采用機(jī)械和化學(xué)相結(jié)合的加工方式更是如此。用金相顯微鏡（zui小分辨率為亞微米量級(jí)） 可以非常明顯地看見這些小坑（圖2）。對(duì)于表面粗糙度小于1nmRM S 的
反射鏡, 這些小坑的出現(xiàn)是不容許的。
單晶硅主要有（111）、（110） 和（100） 晶面, 由于（111） 晶面是自然解理面, 所以沿（111） 晶面切割時(shí)不易碎裂, 而（110） 和（100） 晶面不是自然解理面, 沿晶面切片時(shí)就容易破碎, 特別是邊緣的破碎在今后的研磨拋光中很容易在表面產(chǎn)生劃痕。另外, （111） 晶面很容易拋光成鏡面, 而（110） 和（100） 晶面拋光成鏡面就比較困難。
通過(guò)以上分析, 我們可以得出這樣一個(gè)結(jié)論: 制作
反射鏡時(shí)應(yīng)選擇沒有或很少缺陷的,其反射面為（111） 晶面的單晶硅。
反射鏡分冷卻反射鏡和非冷卻反射鏡, 對(duì)于冷卻反射鏡, 我們?cè)诳紤]其加工性能時(shí), 不僅要考慮它的光學(xué)加工性能, 同時(shí), 由于它的復(fù)雜冷卻通道結(jié)構(gòu)、冷卻管接口以及密封結(jié)構(gòu)等因素, 因而還要考慮它的機(jī)械加工性能, 對(duì)表1所列的幾種材料, 銅的機(jī)械可加工性能是的, 而鉬僅比其余四種材料稍好。對(duì)于非冷卻
反射鏡, 僅考慮它的光學(xué)加工性能即可。
高能激光技術(shù)的發(fā)展, 要求光學(xué)元件的表面質(zhì)量精度高、超光滑。由于能動(dòng)光學(xué)在強(qiáng)激光系統(tǒng)中的應(yīng)用, 它還使用了大量的超薄型光學(xué)元件, 這些元件的展弦比（直徑與厚度之比） 一般大于20, 有些甚至超過(guò)100。強(qiáng)激光系統(tǒng)中使用的這些鏡子, 要求表面不能有劃痕、麻點(diǎn)等缺陷, 表面面形一般小于一個(gè)波長(zhǎng)（0. 6328μm, PV ） ; 表面的微觀質(zhì)量則要求表面粗糙度小于1nmRM S。國(guó)內(nèi)外對(duì)
高功率激光反射鏡的加工工藝的具體報(bào)導(dǎo)基本上沒有。我們對(duì)具有常規(guī)厚度以及超薄型的反射鏡都進(jìn)行了一些實(shí)驗(yàn), 并取得了一些成果。
光學(xué)元件的表面拋光機(jī)理存在著三種理論, 即機(jī)械磨削理論、化學(xué)作用理論和表面流動(dòng)理論。傳統(tǒng)光學(xué)元件的加工都是以普雷斯頓假設(shè)為基礎(chǔ), 即鏡子表面磨去層的厚度可以通過(guò)下式求得[ 7 ] ,
（5）
式中h i 為在i 點(diǎn)磨去鏡片的厚度; A 為系數(shù); p i 為在i 點(diǎn)的瞬時(shí)壓力; v i 為在i 點(diǎn)的瞬時(shí)速度;T 為加工的持續(xù)時(shí)間。
由于機(jī)械磨削作用在拋光過(guò)程中是zui基本的, 因此, 拋光表面破壞層缺陷的大小與磨料的直徑成正比。傳統(tǒng)拋光粉（直徑為微米量級(jí)） 的微小切削作用可以在分子大小范圍內(nèi)進(jìn)行,拋光結(jié)束后, 表面將形成幾納米至幾十納米的小坑及劃痕。要使被拋光表面的粗糙度達(dá)到亞納米量級(jí), 則切削作用必須限制在原子大小范圍內(nèi)進(jìn)行, 即以納米量級(jí)的微粒參與切削。雖然離子束拋光是原子量級(jí)地去除, 但設(shè)備復(fù)雜、價(jià)格昂貴。通過(guò)分析比較, 我們采用簡(jiǎn)單易行的水中拋光法加工反射鏡。這是因?yàn)樗?a rel="nofollow" >
拋光反射鏡時(shí), 微米量級(jí)甚至是更大顆粒的拋光粉在離心力及重力的作用下, 逐漸沉降至承液器的底部, 不參與切削, 而納米量級(jí)的微粒在布朗運(yùn)動(dòng)的作用下參與切削, 從而得到亞納米量級(jí)的表面粗糙度。
實(shí)驗(yàn)發(fā)現(xiàn), 從面形精度來(lái)看, 硅和鉬沒有多少差別; 從表面粗糙度來(lái)看, 采用傳統(tǒng)拋光工藝, 其結(jié)果明顯比不上水中拋光, 無(wú)論是傳統(tǒng)拋光還是水中拋光, 鉬鏡的表面粗糙度總是大于硅鏡, 這主要是因?yàn)殂f鏡中的雜質(zhì)含量過(guò)高以及致密性較差。如果采用高純度的單晶鉬,則可避免這種現(xiàn)象的產(chǎn)生; 從加工時(shí)間來(lái)看, 鉬鏡所需時(shí)間是硅鏡的兩倍。對(duì)于超薄型元件,我們用傳統(tǒng)的粘結(jié)上盤及一種特殊上盤方式進(jìn)行了加工實(shí)驗(yàn)見圖3、圖4。從圖中可以看出, 兩種上盤方式加工的面形差別很大, 這主要是因?yàn)槌⌒凸杵膭傂暂^差, 傳統(tǒng)的粘結(jié)上盤加工時(shí), 由于粘結(jié)膠的原故, 有很大的膠結(jié)變形, 下盤時(shí)變形很大。而特殊上盤后進(jìn)行水中拋光, 就不存在膠結(jié)變形和熱變形, 僅僅因?yàn)椴牧媳旧淼膽?yīng)力以及拋光盤的不均勻, 才使鏡子表面產(chǎn)生了很小的象散。如果采用高精度拋光盤并對(duì)材料進(jìn)行精密退火, 則可使表面面形更好, 甚至做到小于0. 1λ（PV ）。
根據(jù)以上分析選用的單晶硅, 并采用特殊方式加工的硅鏡, 經(jīng)過(guò)強(qiáng)激光打靶試驗(yàn), 當(dāng)反射鏡處于非焦點(diǎn)位置時(shí), 功率密度為22. 5kW/cm2, 其形變基本上看不出來(lái), 當(dāng)反射鏡處于焦點(diǎn)位置, 功率密度為66. 46 kW/cm2時(shí), 其表面的形變也不超過(guò)半個(gè)波長(zhǎng)。這說(shuō)明反射鏡表面的粗糙度越小, 其抗損傷域值就越高, 而表面粗糙度的大小又與材料的結(jié)構(gòu)、缺陷、晶向及其加工工藝密切相關(guān)。
F ig. 3 Classic locating: interferogram of Si F ig. 4 Specific locating: interferogram of Si
圖3 硅鏡傳統(tǒng)粘結(jié)上盤加工的干涉圖 圖4 硅鏡特殊粘結(jié)上盤加工的干涉圖
3 結(jié) 論
通過(guò)以上分析我們可以知道, 在設(shè)計(jì)和制作高功率連續(xù)
激光反射鏡時(shí)必須考慮以下幾點(diǎn): 其一是材料的綜合熱性能比值; 其二是材料的微觀結(jié)構(gòu)、缺陷及晶向等因素; 其三是材料的加工工藝。
今后我們將開展較大口徑（φ250～φ400mm ） 元件的超光滑加工, 使其加工后的表面粗糙度小于1nmRM S, 并對(duì)超光滑表面的加工工藝及機(jī)理進(jìn)行深入探討, 力爭(zhēng)達(dá)到表面粗糙度小于0. 2nmRM S 的水平, 使加工的光學(xué)零件不僅用于一般高能激光系統(tǒng), 而且適用于X 射線光學(xué)系統(tǒng)。
參考文獻(xiàn)
1 黃濤等. 強(qiáng)激光全反腔鏡熱變形模型及計(jì)算. 強(qiáng)激光與粒子束, 1995, 7 （3） : 336～ 372
2 （日） 素木洋一. 硅酸鹽手冊(cè). 北京: 輕工業(yè)出版社, 1988
3 李責(zé)賢, 鄭樂年. 光學(xué)設(shè)計(jì)手冊(cè). 北京: 北京理工大學(xué)出版社, 1990
4 Taylo r J R. Specification and testing facilities fo r op tical components used in h igh average power visible laser system.
S P IE , 1989, 1047: 250～ 255
5 孫一材. 半導(dǎo)體測(cè)試技術(shù). 北京: 冶金工業(yè)出版社, 1984
6 錢逸泰. 結(jié)晶化學(xué). 合肥: 中國(guó)科技大學(xué)出版社, 1988
7 曹天寧等. 光學(xué)零件制造工藝. 北京: 機(jī)械工業(yè)出版社, 1983
SEVERAL KEY MANUFACTURE TECHNOLOGIES OF M IRROR IN HIGH POWER LASER SYSTEM
Deng J ianm ing, L ing N ing
Institu te of Op tics & E lectronics, Ch inese A cad emy of S ciences, Cheng d u, 610209
ABSTRACT The thermal capability ofmaterial, the surface defect and the fabricat ion techniques of the mirro rs using in h igh pow er cont iune laser are analyzed in th is paper. Several features fo rmanufacturingm ir2 ro r must be considered, w h ich are the rat io S of the thermal capability, m icro st ructure, size of the surface defect, the crystal direct ion on them irro rmaterial and design of technic fo r them irro r. Mo reover the results of experimentat ion are given.
KEY WORDS：m irro r, thermal capability, defect, roughness
522 強(qiáng)激光與粒子束第10卷
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