電子束曝光系統(tǒng)ELS-F125具有以下優(yōu)點(diǎn)：

l  超高書寫精度

- 5 nm 線寬精度 @125 kV

- 1.7 nm 電子束直徑&鄰近效應(yīng)小化 @125 kV

l  大通量、均勻性好

- 寬視野書寫:500um視場下10 nm線寬

- 高束流下電子束直徑依然很小，大通量而不影響分辨率，2 nm電子束直徑@1 nA

l  界面用戶友好

基于Windows系統(tǒng)的CAD和SEM界面:

-簡單易用的圖案設(shè)計功能

-易于控制的電子束條件

二、電子束曝光系統(tǒng)主要功能：

l  主要應(yīng)用

納米器件的微結(jié)構(gòu)

集成光學(xué)器件，如光柵，光子晶體等

NEMS結(jié)構(gòu)，復(fù)雜精細(xì)結(jié)構(gòu)

光刻掩模板，壓印模板

l  技術(shù)能力

三、應(yīng)用：