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上海納騰儀器有限公司
中級(jí)會(huì)員 | 第3年

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  • 半自動(dòng)晶圓鍵合機(jī)

    SUME BW510是用于研發(fā)或小批量生產(chǎn)的半自動(dòng)晶圓鍵合設(shè)備,具備良好的壓力與溫度均勻性較為特的結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)保證鍵合的壓盤相對(duì)水平,先進(jìn)的真空系統(tǒng)以及腔體設(shè)計(jì),方...

    型號(hào): 所在地:上海市參考價(jià): 面議更新時(shí)間:2024/9/24 15:56:25 對(duì)比
    晶圓鍵合8寸真空鍵合
  • 自由曲面三維面型檢測(cè)儀

    自由曲面三維面型檢測(cè)儀自由曲面光學(xué)元件應(yīng)用于智能車載顯示、AR 顯示、手機(jī)鏡頭、激光顯示、照明、 光刻等前沿領(lǐng)域,自由曲面三維面型檢測(cè)儀,能夠非接觸測(cè)量光學(xué)鏡面...

    型號(hào): 所在地:上海市參考價(jià): 面議更新時(shí)間:2024/9/24 10:55:07 對(duì)比
    曲面面型輪廓ARVR
  • 晶圓翹曲應(yīng)力測(cè)量?jī)x

    具備三維翹曲(平整度)及薄膜應(yīng)力的檢測(cè)功能,適用于半導(dǎo)體晶圓生產(chǎn)、半導(dǎo)體制程工藝開發(fā)、玻璃及陶瓷晶圓生產(chǎn)

    型號(hào): 所在地:上海市參考價(jià): 面議更新時(shí)間:2024/9/24 10:35:54 對(duì)比
    晶圓翹曲晶圓應(yīng)力薄膜應(yīng)力
  • 三維測(cè)量輪廓儀

    從產(chǎn)品研發(fā)到質(zhì)量控制,該系統(tǒng)可以用于從超光滑鏡面到粗糙面的各種樣品進(jìn)行表面微觀測(cè)量分析和粗糙度質(zhì)量評(píng)價(jià)。白光干涉原理。

    型號(hào): 所在地:上海市參考價(jià): 面議更新時(shí)間:2024/9/6 12:04:16 對(duì)比
    三維測(cè)量輪廓白光干涉粗糙度
  • 內(nèi)應(yīng)力檢測(cè)儀

    Strain Viewer 內(nèi)應(yīng)力檢測(cè)儀具備化合物晶圓內(nèi)應(yīng)力分布測(cè)量及缺陷篩查等檢測(cè)功能

    型號(hào): 所在地:上海市參考價(jià): 面議更新時(shí)間:2024/9/4 15:37:25 對(duì)比
    晶圓內(nèi)應(yīng)力光學(xué)器件半導(dǎo)體缺陷檢測(cè)
  • 高光譜顯微系統(tǒng)

    高級(jí)研究型高光譜顯微系統(tǒng)結(jié)合了高光譜技術(shù)和顯微鏡技術(shù),能夠在不同波長(zhǎng)范圍內(nèi)獲取高分辨率的光譜信息與生物樣品形態(tài)圖,實(shí)現(xiàn)在一張圖中同時(shí)獲取光譜和圖像信息。該系統(tǒng)還...

    型號(hào): 所在地:上海市參考價(jià): 面議更新時(shí)間:2024/8/19 11:27:54 對(duì)比
    細(xì)胞光譜納米生物學(xué)病理腫瘤
  • 陣列式壓力傳感系統(tǒng)

    陣列式壓力傳感系統(tǒng)通過由前端柔性陣列式微機(jī)電壓力感測(cè)器及后端軟件界面組成,前端傳感器依所承受壓力呈現(xiàn)線性反應(yīng)變化,壓力越大則電導(dǎo)越高,再由后端軟件將接觸面壓力分...

    型號(hào): 定制 所在地:上海市參考價(jià): 面議更新時(shí)間:2024/6/17 18:50:57 對(duì)比
    傳感器壓力傳感器傳感系統(tǒng)壓力感應(yīng)壓力
  • 碳化硅SiC長(zhǎng)晶設(shè)備

    碳化硅SiC長(zhǎng)晶設(shè)備是實(shí)現(xiàn)高質(zhì)量SiC晶體生長(zhǎng)、高純度原料合成、高溫晶體熱處理的專業(yè)設(shè)備。廣泛應(yīng)用于SiC晶體生長(zhǎng)、原料合成、晶體熱處理領(lǐng)域。可以生長(zhǎng)6/8英寸...

    型號(hào): 所在地:上海市參考價(jià): 面議更新時(shí)間:2024/6/17 18:46:54 對(duì)比
    長(zhǎng)晶爐氮化硅薄膜沉積晶體生長(zhǎng)
  • MPCVD金剛石長(zhǎng)晶設(shè)備

    MPCVD金剛石長(zhǎng)晶設(shè)備Intelligent MPCVD Dimond Growth System (IMD)系列金剛石晶體生長(zhǎng)系統(tǒng),是實(shí)現(xiàn)高質(zhì)量金剛石晶體生...

    型號(hào): 所在地:上海市參考價(jià): 面議更新時(shí)間:2024/6/17 18:44:55 對(duì)比
    金剛石晶體單晶爐晶體生長(zhǎng)薄膜沉積
  • Desk V 鍍膜機(jī)

    Desk V 鍍膜機(jī)使用一個(gè)2英寸的陰極進(jìn)行濺射,由一個(gè)最大輸出為100毫安的直流電源驅(qū)動(dòng)。使用傾斜/旋轉(zhuǎn)臺(tái)來實(shí)現(xiàn)好的樣品覆蓋,特別是在粗糙的表面。Desk V...

    型號(hào): 所在地:上海市參考價(jià): 面議更新時(shí)間:2024/6/17 18:42:48 對(duì)比
    鍍膜濺射沉積電子顯微鏡噴金
  • 全自動(dòng)步進(jìn)重復(fù)式激光干涉光刻機(jī)

    全自動(dòng)步進(jìn)重復(fù)式激光干涉光刻機(jī)VIL 1000納米光刻系統(tǒng)具有全自動(dòng)光路重構(gòu)、動(dòng)態(tài)鎖相、高精度步進(jìn)重復(fù)曝光等強(qiáng)大功 能。在放置旋涂好光刻膠的 晶圓后,無需任何手...

    型號(hào): 所在地:上海市參考價(jià): 面議更新時(shí)間:2024/6/17 18:41:04 對(duì)比
    光刻機(jī)無掩膜激光干涉動(dòng)態(tài)鎖相重復(fù)曝光
  • 激光干涉光刻機(jī)

    激光干涉光刻機(jī)----HIL系列激光干涉納米光刻機(jī)具有突破性的強(qiáng)大功能,只需要單次曝光即可在幾分鐘內(nèi)制備大面積周期性納米結(jié)構(gòu)。其最小特征尺寸可以低于50納米。該...

    型號(hào): 所在地:上海市參考價(jià): 面議更新時(shí)間:2024/6/17 18:38:41 對(duì)比
    光刻機(jī)激光干涉納米壓印納米圖案無掩模
  • 低溫強(qiáng)磁場(chǎng)共聚焦樣品桿

    低溫強(qiáng)磁場(chǎng)共聚焦樣品桿物性表征-低溫光學(xué)?低溫強(qiáng)磁場(chǎng)環(huán)境下的共聚焦拉曼、熒光、MOKE、掃描成像測(cè)試

    型號(hào): 所在地:上海市參考價(jià): 面議更新時(shí)間:2024/6/17 18:34:24 對(duì)比
    低溫拉曼低溫?zé)晒?/mark>MOKE低溫磁場(chǎng)
  • 低振動(dòng)光學(xué)型恒溫器

    低振動(dòng)光學(xué)型恒溫器。超低振動(dòng), 低溫拉曼、 熒光、 紅外、 太赫茲、 MOKE及低溫物性測(cè)試

    型號(hào): 所在地:上海市參考價(jià): 面議更新時(shí)間:2024/6/17 18:32:50 對(duì)比
    低溫拉曼低溫紅外低溫太赫茲低溫?zé)晒?/mark>MOKE
  • 無液氨低振動(dòng)低溫磁場(chǎng)測(cè)試系統(tǒng)

    無液氨低振動(dòng)低溫磁場(chǎng)測(cè)試系統(tǒng).萬(wàn)物"皆可轉(zhuǎn)-多種物性測(cè)量轉(zhuǎn)角測(cè)試。多種測(cè)試選件如電學(xué)、磁學(xué)、熱學(xué)、光學(xué)。溫度范圍4.2 K -325 K,最大磁場(chǎng)1T/3T/5...

    型號(hào): 所在地:上海市參考價(jià): 面議更新時(shí)間:2024/6/17 18:31:12 對(duì)比
    FMR電輸運(yùn)熱輸運(yùn)低溫磁場(chǎng)STFMR
  • VIL1000激光干涉光刻機(jī)

    VIL1000激光干涉光刻機(jī) VIL系列納米圖形系統(tǒng)(激光干涉光刻機(jī))具有快速可重構(gòu)光束傳輸、主動(dòng)圖形穩(wěn)定和精確樣品定位等強(qiáng)大功能。該系統(tǒng)可以通過使用標(biāo)準(zhǔn)2cm...

    型號(hào): 所在地:上海市參考價(jià): 面議更新時(shí)間:2024/6/17 18:29:17 對(duì)比
    干涉光刻機(jī)納米圖案生物芯片
  • 國(guó)產(chǎn)PLD脈沖激光分子束外延裝置

    國(guó)產(chǎn)PLD脈沖激光分子束外延裝置。脈沖激光分子束外延成膜法PLD/Laser MBE是將脈沖激光通過合成石英窗導(dǎo)入真空腔內(nèi)照射到成膜靶上,靶被照射后吸收高密度能...

    型號(hào): 所在地:上海市參考價(jià): 面議更新時(shí)間:2024/6/17 18:27:34 對(duì)比
    外延PLDMBE半導(dǎo)體薄膜
  • 聚合物筆印刷

    Polymer Pen Lithography (PPL)聚合物筆印刷是新發(fā)展起來的圖案化方法,結(jié)合了微接觸印刷和蘸筆印刷的優(yōu)點(diǎn),可以實(shí)現(xiàn)低消耗、柔性的分子印刷...

    型號(hào): Park XE-P... 所在地:上海市參考價(jià): 面議更新時(shí)間:2024/6/17 18:26:01 對(duì)比
    聚合物印刷納米印刷生物芯片藥物篩選
  • 原位納米力學(xué)測(cè)試系統(tǒng)

    Nano Indenter® G200原位納米力學(xué)測(cè)試系統(tǒng)是一種準(zhǔn)確,靈活,使用方便的納米級(jí)機(jī)械測(cè)試儀器。 G200 測(cè)量楊氏模量和硬度,包括從納米到...

    型號(hào): G200 所在地:上海市參考價(jià): 面議更新時(shí)間:2024/6/17 18:24:17 對(duì)比
    納米壓痕劃痕摩擦磨損連續(xù)剛度模量
  • 離子束沉積

    離子束沉積作為納米結(jié)構(gòu)的基本組成單元,團(tuán)簇或納米顆粒在納米科學(xué)中具有關(guān)鍵的地位。我們?cè)O(shè)計(jì)研制了兩套氣體聚集型團(tuán)簇源:基于熱蒸發(fā)的氣體聚集團(tuán)簇束流源和磁控等離子體...

    型號(hào): 所在地:上海市參考價(jià): 面議更新時(shí)間:2024/6/17 18:22:22 對(duì)比
    納米團(tuán)簇束流沉積系統(tǒng)納米加工

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