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帶有U-SMPS的MFP Nano plus 4000 濾材濾料測試臺 -使用兩個UF-CPC根據DIN EN 1822-3和ISO 29463-3標準在原始和清潔氣體中實時測定餾分分離效率，并檢測MMPS范圍

•  實時測定10 nm以上顆粒的餾分分離效率
•  通過測量原始氣體和清潔氣體中的顆粒濃度，可將確定餾分分離效率的時間減少一半。
•  無需稀釋！
•  結合兩種UF-CPC版本，UF-CPC在原始氣體中的最高測量濃度可達2,000,000顆粒/立方厘米（單計數模式），而UF-CPC 50在低濃度潔凈氣體中的最高計數率對應于稀釋系數為1：200。
•  符合DIN EN 1822-3和ISO 29463-3的國際可比較的測量結果
•  方便地使用不同的測試氣溶膠，例如NaCl / KCl或DEHS（其他可根據要求提供）

Palas®的MFP過濾器測試臺已經在開發和質量控制的實際應用中在世界各地經過多次驗證。

MFP Nano plus 4000 濾材濾料測試臺專門設計用于根據DIN EN 1822-3和ISO 29463-3標準精確地測定HEPA和ULPA過濾介質的分離效率。

本設備是一種現代且功能強大的納米顆粒測量設備，以U-SMPS形式，進行5 nm到1 µm范圍粒度測量和數值分析：

使用MFP Nanoplus 4000和UF-CPC冷凝粒子計數器在原始氣體和清潔氣體中實時測量特定尺寸的分離效率。

MFP Nanoplus 4000餾分分離效率的實時測量具有以下特殊優勢：

•   通過測量原始氣體和清潔氣體中的顆粒濃度，可將確定餾分分離效率的測量時間減半。
•   結合兩種UF-CPC版本，UF-CPC在原料氣中的最高測量濃度可達2,000,000顆粒/立方厘米（單計數模式），而UF-CPC 50在潔凈氣體低濃度下的最高計數率對應于稀釋系數為1：200。因此，不再需要常規的氣溶膠稀釋。

借助通用氣溶膠發生器UGF 2000，可以使用DEHS或鹽（NaCl / KCl）生產與MMPS范圍相匹配的氣溶膠分布。

測試序列的高度自動化設置以及清晰定義的單個組件和濾波器測試軟件FTControl的可單獨調整程序，共同提供高度可靠的測量結果。

MFP過濾器測試臺是用于扁平過濾器介質和小型微型過濾器的模塊化過濾器測試系統。可以在很短的時間內確定壓力損失曲線、餾分分離效率或負荷，既可靠又具有成本效益。