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簡要描述：RIE等離子刻蝕機該等離子刻蝕機配備了用戶友好的強大軟件，具有模擬圖形用戶界面，參數窗口，工藝編輯窗口，數據記錄和用戶管理。

簡要描述：ICP-RIE等離子刻蝕機三螺旋平行板天線(PTSA)等離子源是SENTECH等離子體工藝設備的屬性。PTSA源能生成具有高離子密度和低離子能量的均勻...

簡要描述：便攜式樣品傳送腔體沉積系統是一種專門設計用于在超高真空環境中傳送和處理樣品的設備。這種設備通常包括一個或多個關鍵組成部分，如連接真空計的接口、反射式光...

簡要描述：4/6英寸輻射式樣品臺系統“可能指的是一種用于實驗或研究的設備或組件，特別是在材料科學、物理學、工程學或其他需要精確控制和分析樣品的環境中的設備。

簡要描述：插拔式加熱器沉積系統是一種方便、實用的加熱設備，廣泛應用于各種工業和商業領域。這種加熱器通常具有緊湊的設計，可以方便地插入到電源插座中，提供快速、高效...

簡要描述：脈沖激光沉積樣品臺是一種物理氣相沉積技術，用于在襯底上生長高質量的薄膜。脈沖激光沉積系統中的樣品臺是一個關鍵組件，用于支撐和加熱待沉積的樣品。

簡要描述：脈沖激光沉積靶臺的設計和應用對于脈沖激光沉積系統的性能和實驗結果具有重要影響。通過綜合考慮穩定性、熱隔離、靈活性、靶材均勻性、冷卻機制以及靶材旋轉等因...

簡要描述：脈沖激光沉積系統激光光路是一個高度復雜和精密的系統，需要各個部分的緊密配合和精確控制，才能制備出高質量的薄膜。同時，隨著科技的發展，脈沖激光沉積技術也...

簡要描述：單腔體脈沖激光沉積系統是一種的材料制備技術，它利用脈沖激光的高能量密度來蒸發和電離靶材上的物質，并在基底上沉積形成各種物質薄膜。這種系統通常包括一個沉...

簡要描述：雙腔體脈沖激光沉積系統（Dual Chamber Pulsed Laser Deposition System）是一種的薄膜制備技術，它結合了脈沖激光...

簡要描述：電漿原子層沉積設備是一種基于常規ALD的方法，其利用電漿作為裂化前驅物材料的條件，而不是僅依靠來自加熱基板的熱能。

簡要描述：原子層沉積設備2為一種氣相化學沉積技術。大多數的ALD反應，將使用兩種化學物質稱為前驅物。這些前驅物以連續且自限的方式與材料表面進行反應。

簡要描述：原子層沉積系統是基于順序使用氣相化學過程的最重要技術之一；它可以被視為一種特殊類型的化學氣相沉積（CVD）。多數ALD反應使用兩種或更多種化學物質（稱...

簡要描述：批量式電漿輔助氣相沉積設備為一種使用化學氣相沉積技術，可為沉積反應提供能量。與傳統的CVD方法相比，可在較低的溫度下沉積各種薄膜且不會降低薄膜質量。

簡要描述：FPD-PECVD 電漿輔助化學氣相沉積：隨著LCD面板和制造所需玻璃的尺寸的增加，其制造設備也變得更大，需要越來越大的設備投資。SYSKEY針對中小...

簡要描述：感應耦合電漿化學氣相沉積設備是一種使用ICP的化學氣相沉積技術，可為沉積反應提供一些能量。與PECVD方法相比，ICP-CVD可以在較低的溫度下沉積各...

簡要描述：低真空化學氣相沉積設備是一種化學氣相沉積技術，利用熱能在基板表面上引發前驅氣體的反應。表面的反應是形成固化材料的原因。

簡要描述：電漿輔助式化學氣相沉積設備是一種使用電漿的化學氣相沉積(CVD)技術，可為沉積反應提供一些能量。與傳統的CVD方法相比，PECVD可以在較低的溫度下沉...

簡要描述：化學氣相沉積為一種薄膜沉積方法，其中將基材暴露于一種或多種揮發性氣體中，在基板表面上反應或分解以生成所需的薄膜沉積物。這種方法通常用于在真空環境中制造...

簡要描述：PECVD等離子沉積設備DEPOLAB 200根據其模塊化設計，PECVD Depolab 200可升級為更大的真空泵組，低頻射頻源和更多的氣路。