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森泰克刻蝕機(jī)Etchlab 200 適用于氟基氣體以及氧氣、氬氣等工藝氣體,具有非常高的工藝穩(wěn)定性和重復(fù)性。升級(jí)增加預(yù)真空室后,可使用氯基氣體、完成金屬、化合物...
森泰克感應(yīng)耦合等離子刻蝕機(jī)SI 500干法刻蝕系統(tǒng)廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體制造、微納加工、MEMS制造等領(lǐng)域。它可以用于刻蝕多種材料,包括但不限于三五族化合物半導(dǎo)體(如...
簡要描述:原子層蝕刻設(shè)備是一種的蝕刻技術(shù),可精準(zhǔn)的控制其蝕刻深度。隨著元件尺寸的進(jìn)一步減小,需要進(jìn)一步的使用ALE才能達(dá)到其所需的精度。
簡要描述:感應(yīng)耦合電漿蝕刻是在標(biāo)準(zhǔn)反應(yīng)離子蝕刻(RIE)的基礎(chǔ)上,添加電感耦合電漿的。感應(yīng)耦合電漿由磁場圍繞石英晶體管所提供。產(chǎn)生的高密度電漿被線圈包圍,將充當(dāng)...
簡要描述:反應(yīng)離子蝕刻設(shè)備機(jī)器中可以非常精確地控制其蝕刻輪廓、蝕刻速率和均勻性,并具有重復(fù)性。等向性蝕刻以及非等向性蝕刻都是可能的。
簡要描述:RIE等離子刻蝕機(jī)SI 591:預(yù)真空室和計(jì)算機(jī)控制的等離子體刻蝕工藝條件,使得SI 591 具有優(yōu)異的工藝再現(xiàn)性和等離子體蝕刻工藝靈活性。靈活性、模...
簡要描述等離子蝕刻機(jī)Etchlab 200根據(jù)其模塊化設(shè)計(jì),可升級(jí)為更大的真空泵組,預(yù)真空室和更多的氣路。
簡要描述:等離子刻蝕機(jī)由于離子能量低,離子能量分布帶寬窄,因此可以用我們的等離子體刻蝕機(jī)SI 500進(jìn)行低損傷刻蝕和納米結(jié)構(gòu)的刻蝕。
簡要描述:深硅刻蝕機(jī)三螺旋平行板天線(PTSA)等離子源是SENTECH等離子體工藝設(shè)備的屬性。PTSA源能生成具有高離子密度和低離子能量的均勻等離子體。它具有...
簡要描述:反應(yīng)離子刻蝕機(jī)我們的等離子蝕刻設(shè)備包括用功能強(qiáng)大的用戶友好軟件與模擬圖形用戶界面,參數(shù)窗口,工藝窗口,數(shù)據(jù)記錄和用戶管理。
簡要描述:英國光柵刻蝕三螺旋平行板天線(PTSA)等離子源是SENTECH等離子體工藝設(shè)備的屬性。PTSA源能生成具有高離子密度和低離子能量的均勻等離子體。它具...
日本傾斜角RIE等離子蝕刻機(jī)的簡介:日本傾斜角刻蝕代表了直接置片等離子刻蝕機(jī)家族,它結(jié)合了RIE的平行板電極設(shè)計(jì)和直接置片的成本效益設(shè)計(jì)的優(yōu)點(diǎn)。Etchlab2...
簡要描述:進(jìn)口深硅刻蝕:三螺旋平行板天線(PTSA)等離子源是SENTECH等離子體工藝設(shè)備的屬性。PTSA源能生成具有高離子密度和低離子能量的均勻等離子體。它...
簡要描述:RIE等離子刻蝕機(jī)2我們的等離子蝕刻設(shè)備包括用功能強(qiáng)大的用戶友好軟件與模擬圖形用戶界面,參數(shù)窗口,工藝窗口,數(shù)據(jù)記錄和用戶管理。
簡要描述:RIE等離子刻蝕機(jī)該等離子刻蝕機(jī)配備了用戶友好的強(qiáng)大軟件,具有模擬圖形用戶界面,參數(shù)窗口,工藝編輯窗口,數(shù)據(jù)記錄和用戶管理。
簡要描述:ICP-RIE等離子刻蝕機(jī)三螺旋平行板天線(PTSA)等離子源是SENTECH等離子體工藝設(shè)備的屬性。PTSA源能生成具有高離子密度和低離子能量的均勻...
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