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參 考 價 | 面議 |
產(chǎn)品型號H83-50 H83-125 H84-125
品 牌其他品牌
廠商性質(zhì)經(jīng)銷商
所 在 地深圳市
更新時間:2024-11-25 15:25:46瀏覽次數(shù):48次
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日本ULVAC愛發(fā)科半導(dǎo)體臥式熱處理設(shè)備
這是一款高度可靠的熱處理爐,擁有 30 多年的良好記錄。可用于200mm硅片的氧化、擴散、退火等熱處理。
這是一種臥式爐,用作氧化爐、擴散爐和退火爐。
可以在一臺設(shè)備上選擇不同的進程。
我們的目標是通過使用 3 層或 4 層配置來節(jié)省空間。
5 個區(qū)域加熱器均獨立控制,可實現(xiàn)溫度控制,具有出色的熱均勻性和穩(wěn)定性。
配備內(nèi)部控制系統(tǒng),操作簡單可靠。
H83-125和H84-125標配船用升降機,可以輕松裝載到上層。
可以進行諸如熱解氧化、濕式氧化、干式氧化、使用三氯氧化磷(POCl 3 )和三溴化硼(BBr 3 )的磷擴散、硼擴散和退火等工藝。
硅片的熱氧化、擴散和退火
模型 | H83-50 | H83-125 | H84-125 |
過程 | 氧化、擴散、退火 | ||
晶圓直徑 | ~200mm(8英寸) | ||
級數(shù) | 3 | 3 | 4 |
產(chǎn)品晶圓數(shù)量 | 50 | 125 | 125 |
加熱區(qū) | 5 | ||
加熱器材質(zhì) | 鐵鉻鋁 | ||
常用溫度 | 600~1200℃ | ||
浸泡長度 | 370毫米 | 800毫米 | 800毫米 |
溫度均勻 | ±1.0℃ |
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