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RTP100淘淘西直銷(xiāo)！日本UNITEMP/尤尼真空工藝快速加熱爐RTP-100
| 參考價(jià): | ￥ 256000 |
| 訂貨量: | 1套 |
具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)- RTP100 產(chǎn)品型號(hào)
- UNITEMP/尤尼坦 品牌
- 經(jīng)銷(xiāo)商 廠商性質(zhì)
- 深圳市 所在地
訪問(wèn)次數(shù)：239更新時(shí)間：2024-05-17 17:55:25
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產(chǎn)品簡(jiǎn)介
| 應(yīng)用領(lǐng)域 | 環(huán)保,生物產(chǎn)業(yè),能源,電子,綜合 |
|---|
Φ4英寸兼容觸摸屏式前裝式
真空工藝快速加熱爐RTP-100
RTP-100前裝式真空工藝高速退火爐
RTP-100 前裝式
真空工藝快速退火爐
設(shè)備尺寸：505 x 505 x 570 mm (WxDxH)
設(shè)備重量：約 55 kg
產(chǎn)品介紹
淘淘西直銷(xiāo)！日本UNITEMP/尤尼真空工藝快速加熱爐RTP-100、
淘淘西直銷(xiāo)！日本UNITEMP/尤尼真空工藝快速加熱爐RTP-100
Φ4英寸兼容觸摸屏式前裝式
真空工藝快速加熱爐RTP-100
RTP-100前裝式真空工藝高速退火爐
RTP-100 前裝式
真空工藝快速退火爐
設(shè)備尺寸：505 x 505 x 570 mm (WxDxH)
設(shè)備重量：約 55 kg
非常適合原型開(kāi)發(fā)。
加熱區(qū)域的頂部和底部配備IR（紅外線(xiàn)）型加熱器，最高溫度可達(dá)1200℃，并可高速升溫150K/秒。采用氮?dú)獯祾叻绞降睦鋮s方式，降溫速度高達(dá)190K/min。（1200至400℃，此后25K/min。）
觸摸屏用于輪廓程序控制。
除了創(chuàng)建溫度控制、氣體流量 (MFC)、真空控制等配置文件程序外，您還可以保存過(guò)程數(shù)據(jù)。
它可以加熱最大100x100mm或Φ100mm的物體。
盡管桌面尺寸可實(shí)現(xiàn)最高溫度1200℃的真空工藝快速加熱爐。
兼容氮?dú)獯祾摺⒀鯕獯祾摺⒑铣蓺猓錃?氮?dú)猓┐祾叩取?/span>
由于工作區(qū)域是氣體保護(hù)的，因此可用于存在污染問(wèn)題的工藝或其他關(guān)鍵工藝。
加熱由頂部和底部的 24 個(gè) IR（紅外線(xiàn)）加熱器進(jìn)行，可實(shí)現(xiàn)準(zhǔn)確、快速的加熱。
與適當(dāng)?shù)恼婵毡媒Y(jié)合，可實(shí)現(xiàn)高達(dá)0.1 Pa (10 -3 hPa)的真空環(huán)境。
兼容氮?dú)獯祾叻ǖ臏囟认陆?/span>
標(biāo)準(zhǔn)配備觸摸屏顯示器。通過(guò)觸摸操作輕松操作
主機(jī)上最多可注冊(cè)50個(gè)50段（行）的溫度控制程序。
兼容高速加熱/冷卻
配備高速紅外線(xiàn) (IR) 加熱器，最高可升溫至每分鐘 9000°C 或更高（每秒 150°C 或更高）。當(dāng)然，也可以以輪廓程序的任何速率升高溫度。另外，在降溫過(guò)程中，通過(guò)向腔室中供應(yīng)冷卻氮?dú)猓梢园踩剡M(jìn)行冷卻，而不會(huì)損壞處理后的器件表面。
兼容各種氣體吹掃環(huán)境
最多可以安裝4個(gè)MFC（質(zhì)量流量控制器）系統(tǒng)，因此除了真空或大氣環(huán)境之外，還可以在任何工藝氣體吹掃環(huán)境中進(jìn)行退火。不僅可以在配置文件程序中注冊(cè)各種氣體系統(tǒng)的開(kāi)/關(guān)控制，還可以注冊(cè)其流量，從而可以輕松再現(xiàn)各種環(huán)境。
簡(jiǎn)單的溫度曲線(xiàn)設(shè)置
標(biāo)配7英寸觸摸屏。任何控制配置文件程序都可以在觸摸面板上創(chuàng)建和保存，無(wú)需單獨(dú)的外部 PC。最多可注冊(cè)并執(zhí)行 50 個(gè) 50 個(gè)步驟的溫度控制程序。此外，標(biāo)準(zhǔn)配置還包括將實(shí)驗(yàn)數(shù)據(jù)保存到 USB 存儲(chǔ)器的功能。通過(guò) USB 存儲(chǔ)器也可以輕松地將實(shí)驗(yàn)數(shù)據(jù)移動(dòng)到任何 PC。
正面裝載方式
腔室的開(kāi)啟和關(guān)閉采用手動(dòng)前裝方式。將晶圓放在托盤(pán)上后，向后滑動(dòng)托盤(pán)并將控制桿移至鎖定位置。
查看具體信息
前裝式真空工藝快速加熱爐（RTP 型）專(zhuān)為尋求緊湊、價(jià)格實(shí)惠的設(shè)備的客戶(hù)而設(shè)計(jì)。除了多功能晶圓表面處理之外，該設(shè)備還可以靈活支持漿料燒結(jié)和有機(jī)成膜等多種應(yīng)用。
有效加熱面積為100x100x18mm，但通過(guò)使用可選的適配器，它可以支持Φ50mm和Φ75mm的晶圓。
標(biāo)準(zhǔn)配備1條質(zhì)量流量控制器（MFC）氣體管線(xiàn)，可通過(guò)程序（物體）自由設(shè)定氣體流量并使用。總共可以添加4個(gè)氣體模塊，并且還可以使用質(zhì)量流量控制器來(lái)控制氣體流量。
腔室外殼可承受高達(dá)0.1Pa（10-3mbar）的真空度，因此通過(guò)適當(dāng)選擇要連接的真空泵，它也可以在高真空環(huán)境中使用。此外，該設(shè)備最重要的一點(diǎn)是它可以使用 IR（紅外）加熱器處理高達(dá) 70K/秒的高溫升溫速率。
配置文件程序由新型觸摸屏控制器精確控制。您可以在觸摸屏控制器（SPS控制器）上注冊(cè)最多50個(gè)最多50段（線(xiàn)）的程序，因此您可以通過(guò)簡(jiǎn)單的操作調(diào)用并執(zhí)行所需的加工程序。除了創(chuàng)建程序外，您還可以將執(zhí)行過(guò)程的各種數(shù)據(jù)保存為 CSV 格式，因此您只需主機(jī)即可完成所有操作，而無(wú)需依賴(lài)外部 PC。
