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　　為了使電子顯微鏡中的樣品能夠成像，它們需要有導(dǎo)電性，通過(guò)在樣品上形成導(dǎo)電層的鍍膜，用來(lái)抑制電荷，減少熱損傷，并提高在SEM中定位檢查所需的二次電子信號(hào)。

　　磁控濺射儀的測(cè)試原理：在封閉腔室中，放置陽(yáng)極靶材，充入氣體，保持一定的真空度，在陽(yáng)極和陰極之間加載高壓，會(huì)發(fā)生輝光放電現(xiàn)象。電離的氣體離子會(huì)轟擊、侵蝕陽(yáng)極靶材。靶材原子會(huì)因此向四周擴(kuò)散，在磁力的束縛下在一定范圍內(nèi)沉積，最終在樣品表面形成一個(gè)均勻的鍍層。這個(gè)鍍層可以抑制荷電，減小熱損傷，提高二次電子產(chǎn)率，從而改善掃描電鏡觀察效果。

　　平時(shí)使用時(shí)，最常見(jiàn)靶材的是金靶。正是這個(gè)原因，離子濺射儀也俗稱(chēng)“噴金儀"。然而，為了獲得更細(xì)小的晶粒尺寸、更薄的連續(xù)鍍層，有時(shí)候也會(huì)使用其他靶材（比如鉻、鉑金、銅）。

　　產(chǎn)品概覽

　　磁控濺射儀的產(chǎn)品特點(diǎn)

　　樣品腔尺寸：圓柱形，直徑150mmx高度120mm；

　　樣品腔真空度：極限真空度：＜0.1Pa，工作真空度：0-10Pa，恒壓控制；

　　樣品臺(tái)：可以裝載樣品8-15個(gè)，高度可調(diào)范圍為40mm；

　　靶材：Au靶為標(biāo)配，Pt，Cu（選件）規(guī)格：直徑57mmx0.1mm厚；

　　濺射電流：微處理器控制，安全互鎖，可調(diào)，最大電流200mA，程序化數(shù)字控制；

　　濺射頭：低電壓平面磁控管，靶材更換快速，環(huán)繞暗區(qū)護(hù)罩；

　　真空計(jì)：皮拉尼真空計(jì)，測(cè)量范圍：0.01Pa-常壓；

　　真空泵：雙級(jí)直連式高速真空泵，抽速：66L/min，真空度：10-2Pa；

　　厚度監(jiān)控：使用高分辨厚度監(jiān)控儀，精確測(cè)定所鍍膜的厚度；（選配）

　　操作方式：觸摸屏控制，手動(dòng)和自動(dòng)模式可選，操作簡(jiǎn)便；

　　機(jī)箱設(shè)計(jì)：長(zhǎng)寬高40*35*50cm，堅(jiān)固防腐蝕的箱體，帶有電源、電壓、電流、真空度等顯示。