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  • 多溫區管式爐

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  • 三溫區獨立加熱管式氣氛爐

    產品用途:三溫區獨立加熱管式氣氛爐主要應用于CVD實驗,熒光粉制備,真空或氣氛燒結、基片鍍膜等要求加熱溫度較高的實驗環境. 是各大材料實驗室理想設備之一。

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  • 雙溫區真空管式氣氛爐

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