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目錄:賽默飛電子顯微鏡>>透射電子顯微鏡(TEM)>> 200 kV場發(fā)射透射電鏡 Talos F200i TEM

200 kV場發(fā)射透射電鏡 Talos F200i TEM
  • 200 kV場發(fā)射透射電鏡 Talos F200i TEM
參考價 面議
具體成交價以合同協(xié)議為準(zhǔn)
參考價 面議
具體成交價以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • 品牌 FEI/賽默飛
  • 型號
  • 廠商性質(zhì) 生產(chǎn)商
  • 所在地 上海市
屬性

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>

更新時間:2024-08-28 13:49:43瀏覽次數(shù):768評價

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價格區(qū)間 面議 儀器種類 熱場發(fā)射
應(yīng)用領(lǐng)域 環(huán)保,化工
200 kV場發(fā)射透射電鏡 Talos F200i TEM
4k × 4k Ceta CMOS 攝像機(jī)及其大視野使得可以在整個高張力范圍內(nèi)以高靈敏度和高速進(jìn)行實(shí)時數(shù)字縮放。

200 kV場發(fā)射透射電鏡 Talos F200i TEM

用于高通量、高分辨率化學(xué)表征和動態(tài)觀察的 TEM 和 STEM 分析

主要特點(diǎn)

可搭配眾多高分辨率場發(fā)射槍 (FEG)

選擇 X-FEG、高亮度 X-FEG 或超高亮度冷場發(fā)射槍 (X-CFEG)。X-CFEG 將 (S)/TEM 成像及能量分辨率相結(jié)合。

可搭配雙 EDS 技術(shù)

從單個 30 mm2 檢測器到用于高通量(或低劑量)分析的雙 100 mm2 檢測器中,選擇您需求的 EDS 檢測器。

高質(zhì)量 STEM/TEM 圖像和準(zhǔn)確的 EDS

創(chuàng)新且直觀的 Velox 軟件用戶界面非常簡單,從而輕松獲得高質(zhì)量的 TEM 或 STEM 圖像。Velox 軟件中的 EDS 吸收校正功能可實(shí)現(xiàn)最準(zhǔn)確的定量。

的原位功能

添加斷層掃描或原位樣品架。快速攝像機(jī)、智能軟件和我們的寬 X-TWIN 物鏡間隙可在盡可能不降低分辨率和分析功能的情況下實(shí)現(xiàn) 3D 成像和原位采集。

200 kV場發(fā)射透射電鏡 Talos F200i TEM提高了生產(chǎn)率

超穩(wěn)定的色譜柱、借助 SmartCam 的遠(yuǎn)程操作和恒定功率物鏡,可進(jìn)行快速模式和高電壓 (HT) 切換。多用戶環(huán)境的快速輕松切換。

可重復(fù)性最高的數(shù)據(jù)

所有日常 TEM 調(diào)整、例如聚焦、共心高度、電子束移位、冷凝器光闌、電子束傾斜樞軸點(diǎn)和旋轉(zhuǎn)中心都是自動進(jìn)行的,確保您始終從最佳成像條件開始工作。實(shí)驗(yàn)可重現(xiàn),使您可以專注于研究,而不是工具。

高速提供大視野成像

4k × 4k Ceta CMOS 攝像機(jī)及其大視野使得可以在整個高張力范圍內(nèi)以高靈敏度和高速進(jìn)行實(shí)時數(shù)字縮放。

緊湊型設(shè)計

更小的占地面積和尺寸有助于在更具挑戰(zhàn)性的空間中使用此工具,同時降低基礎(chǔ)設(shè)施和支持成本。


性能數(shù)據(jù)

TEM
  • 線分辨率: ≤0.10 nm

操作 系統(tǒng)XX 單元
  • 控制器:Windows® 10

  • 遠(yuǎn)程控制:是

真空系統(tǒng)
  • 氣鎖抽氣:無油和無振動

  • 冷阱:標(biāo)準(zhǔn)

  • 長時間杜瓦瓶:可選配 - 至少 4 天待機(jī)時間(重新補(bǔ)充之間)

STEM 成像
  • STEM 分辨率: ?

    • ≤0.16 nm (S-FEG/X-FEG)

    • ≤0.14 nm ,100pA (X-CFEG)

  • 檢測器: HAADF 和/或同軸 Panther BF/DF

能量色散 X 射線光譜 (EDS)
  • 檢測器尺寸 (Bruker X-flash):30、100 或 雙 100 mm2

  • 可伸縮: 是,電動

電子能量損失光譜 (EELS)
  • ≤0.8 eV (S-FEG/X-FEG)

  • ≤0.3 eV (X-CFEG)

槍亮度 200 kV
  • 4×108 A /cm2 srad (S-FEG)

  • 1.8×109 A /cm2 srad (X-FEG)

  • 2.4×109 A /cm2 srad (X-CFEG)



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